なぜ金メッキされたIRランプが、あなたの製造工程にとって重要なのか では、待つという時間の問題について話しましょう。 もし従来の強制対流式の加熱方式を使っている場合、どうなるかご存知でしょう。まず空気を加熱し、その空気がウェーハを温めるのです。これは遅く、時間の無駄になります。半導体製造においては...

ファブ内での二酸化炭素削減：なぜ認証済みの赤外線ランプが重要なのか 正直言って、半導体製造工場は莫大なエネルギーを消費します。特に、ウェーハを適切な温度にするための硬化や焼成工程ではその傾向が顕著です。もしまだ古い方式の対流式オーブンを使っているなら、数枚のウェーハを適切な温度にするために、大量の...

なぜ、すべてのUHPヒーターランプをテストするのか？（そして、なぜあなたもそれを気にすべきか） UHPヒーターランプは過酷な環境で動作します。極端な高温と高電圧の中では、わずかなミスでも大惨事につながります。 例えば、絶縁体にわずかな穴が開いたり、石英に微細な亀裂が入っただけで、瞬時にアーク放電が...

実際に重要な場所により多くの熱を与える：ウェーハの硬化処理 もしウェーハの硬化処理ラインを運営しているなら、その苦労はよくわかるでしょう。基板上の全ての場所で均一な温度が必要ですが、電力コストを無駄にしたくはありません。 問題は、IRランプが熱をあらゆる方向に放出することです。適切な反射器がないと...

粉塵によってバイオセンサーが壊れるのを防ごう クラス100のクリーンルームで働いたことがある人なら、そのストレスはよくわかるでしょう。目に見えないほど微小な粉塵が一つあっただけで、作業していたセンサー全体が台無しになってしまいます。本当にイライラしますよね。 問題の原因となるのは、ほとんどの加熱要...

無鉛チップのIR硬化処理を正しく行うには 半導体業界では、環境に優しい製品を作るために鉛を使わないようにという圧力が強い。しかし、そのために組み立てラインの速度を落とすのは誰も望んでいない。そこで役立つのがIR硬化処理だ。巨大なオーブンを温める時間を無駄にする代わりに、IR光は直接基板に当たる。こ...

ダストによってバイオセンサーが壊れるのを防ごう クラス100のクリーンルームを運営している方なら、その悩みはよくわかるでしょう。すべてを最適化しても、突然ガスが発生したり、ちょっとしたゴミの破片が現れて、製品の品質が低下してしまいます。 多くの場合、問題の原因は一般的な加熱素子です。これらは剥がれ...

灰塵が生産性を台無しにするのを防ごう 半導体製造工場や高精度光学機器の世界では、わずかな灰塵でも大問題です。たった一粒の灰塵で、ウェーハ全体が台無しになってしまうこともあります。 クラス100のクリーンルームを運営している方なら、通常の加熱要素では不十分だということをご存知でしょう。加熱や冷却の際...

なぜオゾンを発生させないIR硬化法が半導体製造に適しているのか もし半導体工場で働いているのであれば、ご存知の通りです。無鉛化や環境に優しい製造法というのは、単なる提案ではなく、法律上の義務です。 しかし問題なのは、従来の加熱方法、例えば一般的なIRランプでは、オゾンが発生してしまうという点です...

クラス100のクリーンルームを実際に清潔な状態に保つために クラス100のクリーンルームを運用する際には、「ほぼ清潔」というだけでは不十分です。わずかなほこりや、ヒーターから発生するガスでさえも、半導体ウエハーや医療用インプラントを数秒以内に破壊してしまう可能性があります。これは本当に深刻な問題で...

半製品の炭素排出量を削減する：なぜ防水型赤外線ランプが効果的か もし、自社の工場を「グリーンファクトリー」にしたいと思っているなら、おそらく洗浄や乾燥の工程で多くのエネルギーが無駄に消費されていることに気づいているはずです。多くの工場では、依然として大規模な対流式オーブンや、電力を多く消費するホッ...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つためには、どうすればいいのでしょうか？ 正直に言って、クラス100のクリーンルームに熱を加えるというのは、問題を引き起こす原因になりがちです。ほとんどの加熱要素は汚れやすく、熱くなると粒子が飛び散ったり、奇妙な化学物質が空気中に漏れ出したりします。...

安全を守るために：揮発性物質が多い場所での炭素繊維製IRランプの使用法 化学洗浄エリアで赤外線ヒーターを使用する場合、燃えやすい蒸気や腐食性のある物質が至る所にあるという問題があります。通常のオープンタイプのランプをそこに設置するのは、まさに火災を招く行為です。あまりにも危険すぎます。 このような...

ファブの現場では、150mmのSiCウェーハがリソグラフィー装置内に置かれており、今にもフォトレジストの焼成が始まるところです。わずか数度の温度変動でも、重要な寸法制御が乱れ、多大なコストがかかってしまいます。そのため、ヒーターランプは単なる熱源として機能するだけでなく、再現性のある熱管理装置とし...

製造現場では、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際に、わずか0.2℃の温度変動でも、回路幅の制御が乱れ、多くのウェーハが無駄になってしまいます。ですから、一定の熱的基準値を維持できるランプが必要です。当社のASML用リソグラフィーランプは、まさにそのような機能を提供し、工程設計における熱的条件...

製造現場において、フォトレジスト処理時の熱変動は単なる学術的な問題ではありません。それは線幅のばらつきや接着不良、歩留まりの低下といった問題として現れ、一回の処理ごとに悪化していきます。ですから、プロセスに逆らわず、むしろプロセスをサポートするような加熱源が必要です。私たちのRTPランプはまさにそ...

ファブの現場では、フォトレジストのベイクプロファイルは単なる好みの問題ではありません。それは、製品の歩留まりを左右する重要な要素です。ソフトベイクやハードベイクの際に2℃ほどの温度変動があるだけで、CDの位置がずれたり、スカムが発生したりして、全体の製品が廃棄されてしまうこともあります。私たちは、...

リソグラフィーの工程において、出力や温度プロファイルが不安定なニコン製ステッパーランプを使用すると、光の強度が低下するだけでなく、露光精度も悪化します。その結果、ソフトベイクやハードベイクの過程でフォトレジストの状態が乱れ、線幅のばらつきや残留膜の発生、歩留まりの低下といった問題が生じます。これら...

ウェハフロア上でのフォトレジストのプレベークやウェハ乾燥中の熱ドリフトは、単なるライン速度の低下にとどまりません。ウェハ上に欠陥をもたらし、それは容認できないものです。 ウェハ装置用の赤外線ランプソケットは一つの目的に特化して設計されています。プロセス温度を安定的かつ再現性よく、フィルムの熱予算内...

ファブフロアでは、フォトレジストのベークがわずかにずれるだけで、ライン上で目に見える前に歩留まりを大きく損なう可能性があります。パワーデバイス用ウェハでは、熱予算が厳しいため、加熱ランプはサイクルごと、ロットごとにまったく同じ温度に到達させる必要があります。温度変動も予期せぬ事態も許されません。...