なぜ金メッキされたIRランプが、あなたの製造工程にとって重要なのか では、待つという時間の問題について話しましょう。 もし従来の強制対流式の加熱方式を使っている場合、どうなるかご存知でしょう。まず空気を加熱し、その空気がウェーハを温めるのです。これは遅く、時間の無駄になります。半導体製造においては、この「時間コスト」は急速に蓄積されていきます。要するに、チャンバーの温度が安定するまで、ただ待っているだけなのです。 一方、金メッキされたIRランプは、この手間を省きます。空気を操作する必要がなく、電磁波を通じて直接基板にエネルギーを送り込むのです。これは直接的で、速いのです。 秘密は金にあります。 ほとんどの石英ランプは、広範囲にわたって熱を放出します。しかし、石英に薄い金膜を施すことで、状況が変わります。金は特定の波長の光を反射する働きをし、熱を正確に必要な場所に送り込みます。 チャンバーや機械のフレームを加熱するために何キロワットものエネルギーを無駄にする代わりに、エネルギーはターゲットに集中します。これにより、部屋全体を加熱する必要がなく、ウェーハだけを加熱すれば済みます。 空気は本当に遅いです。 空気は悪い伝導体です。機能させるためには、巨大な送風機や長い準備時間が必要です。一方、IRランプは違います。瞬時に作動します。数分ではなく、数秒で温度を変えることができます。これにより、1枚のウェーハを処理する時間が短縮されるだけでなく、加熱ステーションのスペースも節約できます。床面積が広くなり、待つ時間も減ります。 ただし、注意点もあります。 熱を効果的に集中させると、注意が必要です。ランプと基板の距離が適切でないと、ホットスポットが発生してしまいます。 また、遅いセンサーに頼ってはいけません。速い速度に対応できるPIDコントローラーが必要です。もしセンサーの読み取りに遅れがあると、目標温度に到達する前に過剰に加熱されてしまい、ウェーハが破損してしまいます。 最後に、配線には高品質のシールドを使用しましょう。熱くなった時に、EM干渉が精度の高い測定値を乱すのを防ぐためです。