Op de productieafdeling ligt er een SiC-wafer van 150 mm in de lithografiecel, klaar voor verhitting met fotoresistent. Een temperatuurverschil van maar een paar graden kan de controle over de kenmerken van de wafer verstoren, waardoor er veel kosten gemoeid zijn. Daarom mag de verwarmingslamp niet zomaar als warmtebron dienen – hij moet eerder functioneren als een betrouwbare thermische instrument.
Wat belangrijk is We hebben de verwarmingslamp ontworpen met behulp van korte infrarode halogeenemitters die zich bevinden in een kwartsomhulsel. Hierdoor heeft de lamp een snelle reactietijd en een stabiele uitstoot. De uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafer is dan ook ≤±0,1°C over de hele verhittingzone. De nauwkeurigheid van de ingestelde temperatuur bedraagt ±0,5°C per batch. De vermogensdichtheid is aangepast aan de vereisten voor zowel zachte als harde verhitting van de fotoresistent. Na 5.000 uur gebruik blijft de thermische prestatie nog steeds goed, met minder dan 5% daling in de uitstoot. Het apparaat is geschikt voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100; de verbindingen zijn zo gemaakt dat er geen deeltjes vrijkomen tijdens het gebruik.
Waarom het geschikt is voor SiC-wafers Bij de verwerking van SiC-wafers is de temperatuurregeling zeer belangrijk, en de kosten per wafer zijn hoog. Deze lamp zorgt voor de benodigde precisie om de gewenste temperatuur te behouden, zonder dat er fouten optreden. Hierdoor wordt het aantal defecte producten en herwerkingen verminderd. De snelle opwarmtijd verkort de productietijd, en de stabiele uitstoot zorgt voor minder energieverbruik. Het apparaat voldoet aan de internationale standaarden voor halfgeleiderapparatuur, zodat het gemakkelijk kan worden vervangen zonder dat de hele apparatuur opnieuw moet worden geconfigureerd.
Een paar praktische tips Voor de installatie moet je ervoor zorgen dat de connector van het apparaat goed past en dat de spanning correct is ingesteld. Anders zal de uniformiteit van de temperatuur negatief beïnvloed worden. De lamp werkt samen met standaardverhittingssystemen, maar je moet de geometrie van de reflector aanpassen aan de grootte van de wafer. Plan na het plaatsen van de lamp een snel kalibratieproces in, zodat de instellingen perfect aansluiten bij je proces.