Op de productieafdeling ligt er een SiC-wafer van 150 mm in de lithografiecel, klaar voor verhitting met fotoresistent. Een temperatuurverschil van...

Op de productielijn zijn de parameters voor het verhitten van de fotorezistent niet zomaar een keuze – ze bepalen namelijk of er productie mogelijk...

Out on the line ligt die 300mm wafer te wachten op zijn soft bake—de stap die het photoresist-profiel verankert. Een drift van 2°C is al voldoende om...