実際に重要な場所により多くの熱を与える：ウェーハの硬化処理 もしウェーハの硬化処理ラインを運営しているなら、その苦労はよくわかるでしょう。基板上の全ての場所で均一な温度が必要ですが、電力コストを無駄にしたくはありません。 問題は、IRランプが熱をあらゆる方向に放出することです。適切な反射器がないと...

安全を守るために：化学洗浄におけるIRランプの利用 ウェーハを化学薬品で洗浄する際、実質的には不安定で可燃性の高い溶剤と共に作業していることになります。このような環境では、通常の赤外線ランプは単なる工具ではなく、むしろ危険因子となります。わずかな火花や端子の過熱だけで、大規模な爆発が起こり得ます。...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つ方法 もしクラス100の環境でシリコンウェーハを加熱しているのであれば、ガスが発生するという問題をご存知でしょう。わずかな微粒子やVOCが混入するだけで、作業したウェーハ全体が無価値になってしまいます。本当に厄介です。 そのため、私たちは通常のヒー...

適切な間隔の設定：ウェーハ加熱における赤外線ヒーターの利用 スマートな製造ラインを構築する場合、古式の熱質加熱ではもはや十分ではないことがわかっているでしょう。速度が遅すぎるからです。そのため、高強度の赤外線システムを使用します。これにより、温度を素早く上げ下げできるので、デジタル化された生産ライ...

空気を加熱するのはやめよう：MEMSウェーハを乾燥させるためのより良い方法 MEMSの製造に携わったことがある人なら、ウェーハを乾燥させる際の苦労がどれほど大変かご存知でしょう。これはバランスを取る必要がある作業です。ウェーハを完全に乾燥させ、残留物を残さないようにしたいけれど、単純に熱を当ててし...

はじめに さっそく本題に入りましょう。私たちが製造しているのは赤外線加熱ランプですが、ただのランプではありません。これらは、半導体ウェーハを加熱するという過酷な作業のために設計された高精度な機器です。 そして、その作業環境は極めて危険です。ウェーハを洗浄するチャンバー内には、簡単に火災や爆発を引き...

ファブの現場では、150mmのSiCウェーハがリソグラフィー装置内に置かれており、今にもフォトレジストの焼成が始まるところです。わずか数度の温度変動でも、重要な寸法制御が乱れ、多大なコストがかかってしまいます。そのため、ヒーターランプは単なる熱源として機能するだけでなく、再現性のある熱管理装置とし...

ファブフロアでは、フォトレジストのベークがわずかにずれるだけで、ライン上で目に見える前に歩留まりを大きく損なう可能性があります。パワーデバイス用ウェハでは、熱予算が厳しいため、加熱ランプはサイクルごと、ロットごとにまったく同じ温度に到達させる必要があります。温度変動も予期せぬ事態も許されません。...

ライン上では、300mmウェーハがソフトベイクを待っている。これはフォトレジストのプロファイルを固定する工程だ。わずか2℃のずれが、重要寸法を崩し、全ロットの廃棄につながる。これを防ぐために、当社は光学ウェーハ処理用ヒーターを設計した。 実際に重要なのは以下の点である。 本装置は、石英強化チャンバ...