Trên sàn wafer, sự trôi nhiệt trong quá trình tiền nung lớp nhạy sáng hoặc làm khô wafer không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ dây chuyền. Nó gây ra khuyết tật trên wafer—khuyết tật mà bạn không thể chấp nhận.
Đế đèn hồng ngoại cho thiết bị wafer được thiết kế cho một nhiệm vụ duy nhất: giữ nhiệt độ quá trình ổn định, có thể kiểm soát được và nằm trong giới hạn nhiệt của lớp màng.
Điều thực sự quan trọng bên trong
Chúng tôi sử dụng phát xạ hồng ngoại sóng ngắn kết hợp với đế đèn thạch anh và cấu trúc phản xạ nhằm tập nhiệt vào vị trí cần thiết—nhanh và định hướng—không có điểm nóng.
Điều này mang lại độ đồng đều trên toàn bộ wafer trong phạm vi ±0.1°C trong vùng nung. Việc tăng nhiệt được kiểm soát chặt chẽ, giúp dung môi trong lớp nhạy sáng bay hơi sạch trong giai đoạn pre-bake, và cấu trúc lớp nhạy sáng được giữ ổn định sau quá trình hard bake.
Giao diện đế đèn được thiết kế để lắp dễ dàng vào thiết bị: kích thước nhỏ gọn, kiểu lắp chuẩn, tiếp xúc điện vững chắc. Kết quả là công suất phát ổn định qua nhiều lô sản xuất.
Lý do nguồn nhiệt này được duy trì
Đây là nguồn nhiệt bạn phải dựa vào cho những bước không thể sai sót: làm khô wafer để tránh vết nước, pre-bake để thiết lập độ dày và khả năng bám dính của lớp nhạy sáng, và quá trình đóng rắn để cố định mẫu trước khi ăn mòn.
Độ chính xác quan trọng vì nung quá mức sẽ làm biến dạng kích thước quan trọng, còn nung thiếu lại để dung môi tồn dư—kết quả là hiện tượng độ bám kém, bong tróc hoặc cả hai.
Giải pháp hồng ngoại của chúng tôi giảm quán tính nhiệt, rút ngắn chu kỳ, và hạn chế hạt bụi trong phòng sạch Class 1–100. Thiết bị hoạt động hơn 5,000 giờ với giảm công suất dưới 5%, đồng nghĩa với việc giảm số lần thay đèn và ít thời gian gián đoạn không kế hoạch.
Chi tiết giữ quá trình ổn định
Hồng ngoại mang lại tốc độ và độ đồng đều, nhưng vẫn cần quản lý nhiệt nghiêm ngặt.
Lắp đế đèn với khoảng cách đã quy định để các bộ phận lân cận không bị quá nhiệt, và chọn emitter phù hợp với điện áp và hệ thống làm mát của thiết bị.
Lên kế hoạch chạy thử ngắn để hiệu chỉnh profile nung theo từng lớp nhạy sáng. Khi đã thiết lập, cửa sổ quy trình ổn định, dễ dự đoán và dễ kiểm soát.