실제로 중요한 곳에 더 많은 열을 전달하기: 웨이퍼 교정 과정 웨이퍼 교정 라인을 운영한다면 그 어려움을 잘 알고 있을 것입니다. 기판 전체에 균일한 온도가 필요하지만, 그러기 위해 너무 많은 전력을 소비하고 싶지는 않습니다. 문제는 IR 램프가 열을 사방으로 방출한...

안전을 위한 조치: 화학적 웨이퍼 세척 과정에서의 적외선 램프 사용 화학 물질을 사용하여 웨이퍼를 세척할 때는, 사실상 폭발성이 강한 용제들과 함께 작업하는 셈입니다. 이러한 환경에서는 일반적인 적외선 램프도 단순한 도구가 아니라 오히려 위험 요소가 됩니다. 약간의...

클래스 100 청정실을 항상 깨끗하게 유지하는 방법 만약 클래스 100 환경에서 실리콘 웨이퍼를 가열한다면, 가스가 발생하는 문제가 얼마나 심각한지 이미 잘 알고 있을 것입니다. 아주 작은 먼지 조각이나 VOC 같은 물질만 있어도 전체 제품이 폐기되고 맙니다. 정말...

적절한 거리 유지하기: 웨이퍼 가열을 위한 적외선 기술 스마트 팹을 구축한다면, 이제는 구식의 열 전달 방식으로는 충분하지 않다는 것을 이미 알고 있을 것입니다. 속도가 너무 느리기 때문입니다. 그래서 우리는 고강도 적외선 시스템을 사용합니다. 이를 통해 온도를 빠르...

공기를 가열하는 것을 중단하라: MEMS 웨이퍼를 건조시키는 더 나은 방법 MEMS 제조 과정에 참여해본 사람이라면, 웨이퍼를 건조시키는 데 얼마나 큰 어려움이 있는지 잘 알 것입니다. 이는 균형을 맞춰야 하는 문제입니다. 웨이퍼가 완전히 마르고 잔여물이 없어야 하지...

서론 간단히 말해, 우리는 적외선 가열 램프를 만듭니다. 하지만 그냥 아무 램프나 아닙니다. 이 램프들은 반도체 웨이퍼를 가열하는 데 사용되는 고성능 도구입니다. 그리고 이러한 작업은 매우 위험한 환경에서 이루어집니다. 웨이퍼가 세척되는 장소에는 쉽게 불이 붙거나 폭...

팹 내에서는 150mm 크기의 SiC 웨이퍼가 리소그래피 장비 내에 있으며, 이제 포토레지스트를 굽는 단계를 기다리고 있습니다. 단 몇 도의 온도 변동만으로도 정밀한 치수 제어가 어려워지며, 그로 인해 막대한 비용이 발생할 수 있습니다. 따라서 히터 램프는 단순한 열...

웨이퍼 플로어에서 포토레지스트 프리베이크 또는 웨이퍼 건조 중 발생하는 열 드리프트는 단순한 라인 속도 저하 문제가 아니다. 이는 결함을 웨이퍼에 유발하며, 용납할 수 없는 문제다. 웨이퍼 장비용 적외선 램프 소켓은 한 가지 목적을 위해 설계된다. 공정 온도를 안정적...

반도체 제조 현장에서, 포토레지스트 베이크가 조금이라도 벗어나면 생산 수율에 치명적인 영향을 미치며 라인에서 바로 확인하기 어렵다. 전력 소자 웨이퍼의 경우 열 관리 한계가 엄격하여, 히팅 램프는 사이클마다, 로트마다 동일한 온도를 유지해야 한다. 온도 편차나 예기치...

라인 위에서 300mm 웨이퍼는 포토레지스트 프로파일을 고정하는 소프트 베이크 단계를 기다리고 있다. 2°C의 편차만으로도 치수에 치명적인 영향을 미쳐 전체를 불량 처리할 수 있다. 이러한 상황이 발생하지 않도록 광학 웨이퍼 처리용 히터를 설계했다. 다음은 내부에서...