AFM 스테이지의 온도 변동은 단순히 측정 노이즈로 나타납니다. 반도 정도의 온도 변동만으로도 패턴의 위치가 왜곡되고, 포토레지스트의 프로파일에 오류가 생기며, 양질의 제품들도 재작업을 해야 하는 상황이 발생합니다. 우리는 프로브와 샘플을 설정된 온도로 유지할 수 있는 AFM 히터를 개발했습니다. 이를 통해 시스템이 끊임없이 온도를 조절할 필요가 없습니다.
중요한 점은 무엇일까요?
우리는 빠르고 안정적인 반응 속도와 높은 균일성에 집중했습니다. 이 장치는 단파 적외선을 사용하며, 크리스탈 창을 통해 선명한 신호를 전달합니다. 또한 작은 공간 안에서 150W의 열을 제공합니다. 이 장치는 폐쇄형 구조로 되어 있으며, 정밀하게 교정된 센서를 통해 측정 영역의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지합니다. 본체는 클래스 1–100급 청정실 환경에도 적합하며, 가스 방출이 적은 소재와 입자가 발생하지 않는 표면을 사용합니다. 열 주기 처리 후에도 설정된 온도를 ±0.05°C 이내로 유지할 수 있어, 각 로트 간의 결과가 일관됩니다.
이러한 성능이 리소그래피 및 포토레지스트 측정에서 좋은 결과를 가져오는 이유는, 스캔하기 전에 웨이퍼의 온도를 안정시켜 줌으로써 온도 변동으로 인한 선폭 변화를 방지하기 때문입니다. 포장 과정에서는 언더필 및 인터포저의 열 특성을 정확하게 측정할 수 있으며, 얇은 구조물이 손상되는 것을 막을 수 있습니다. 그 결과, 재작업 횟수가 줄어들고, 폐기물도 줄어들며, 열 관리도 안정적으로 이루어집니다. 에너지 소비도 줄어듭니다. 빠른 온도 안정화와 낮은 대기전력 덕분에 챔버가 항상 준비 상태를 유지할 수 있습니다.
설치는 간단하지만, 열적 결합이 중요합니다. 스테이지는 평평하고 깨끗한 표면을 가져야 하며, 아주 작은 공기 간극이라도 균일성에 악영향을 미칩니다. 이 히터는 대부분의 AFM 플랫폼과 호환되지만, 기존 컨트롤러와 연동하려면 적절한 커넥터와 교정 테이블이 필요할 수 있습니다. 먼저 짧은 테스트를 통해 스테이지의 온도를 챔버의 센서와 비교한 다음, 그 값을 고정시키면 됩니다.