Mehr Wärme genau dort, wo sie gebraucht wird: Aushärtung der Wafer Wenn Sie eine Anlage zur Aushärtung von Wafern betreiben, kennen Sie das Problem:...

Sicherheit gewährleisten: Infrarotlampen bei der chemischen Reinigung von Wafern Wenn man mit Werkzeugen für die chemische Reinigung von Wafern...

Wie man seine Reinraumumgebung in Klasse 100 tatsächlich sauber hält Wenn man Siliziumwafer in einer Reinraumumgebung der Klasse 100 erhitzt, kennt...

Die richtige Abstände einstellen: Infrarot-Heizung für Wafern Wenn Sie eine intelligente Fertigungsanlage bauen, haben Sie vermutlich bereits...

Hören Sie auf, die Luft zu erhitzen: Eine bessere Methode zur Trocknung von MEMS-Wafern Wer bereits Erfahrung in der Herstellung von MEMS-Wafern hat,...

Einführung Kommen wir direkt zum Punkt: Wir entwickeln Infrarot-Heizlampen – aber nicht irgendeine Art von Lampen. Es handelt sich dabei um...

Auf der Fertigungsebene befindet sich eine 150-mm-SiC-Wafer in der Lithografieanlage – bereit für den Prozess der Behandlung mit Photoresist. Selbst...

Auf der Wafer-Ebene bedeutet thermische Drift während des Photolack-Prebake oder Wafer-Trocknung nicht nur einen Einfluss auf die...

Auf dem Fertigungsboden kann schon ein minimal abweichender Photoresist-Backprozess die Ausbeute beeinträchtigen, noch bevor es in der Linie sichtbar...

Out on the line, sitzt die 300mm-Wafer und wartet auf ihren Softbake—der Schritt, der das Photoresist-Profil fixiert. Eine Drift von 2°C reicht aus,...