Wie man seine Reinraumumgebung in Klasse 100 tatsächlich sauber hält
Wenn man Siliziumwafer in einer Reinraumumgebung der Klasse 100 erhitzt, kennt man das Problem der Ausgasung. Schon ein winziger Staubkorn oder eine Verunreinigung durch VOCs kann dazu führen, dass die ganze Charge unbrauchbar wird. Das ist frustrierend.
Deshalb verlassen wir uns nicht mehr auf herkömmliche Heizelemente. Stattdessen verwenden wir IR-Lampen aus hochreinem synthetischem Quarz.
Warum Quarz?
Metallummantelte Heizelemente neigen im Laufe der Zeit dazu, zu oxidieren oder abzupellen. Das ist in einem Reinraum katastrophal. Unser gefertigter Quarz ist so rein, dass metallische Ionen nicht entweichen können. Zudem handelt es sich um einen kontaktlosen Vorgang – die IR-Strahlung trifft direkt auf die Oberfläche des Wafers. Es kommt zu keinem Kontakt, zu keiner Reibung und somit auch zu keiner physischen Abnutzung. Es handelt sich dabei einfach um reine, direkte Energie.
Der „Null-Emissionen“-Ansatz
Wir haben alles Unnötige weggelassen – keine Klebstoffe, keine billigen Polymere – nichts, was Ausgase oder Partikel freisetzen könnte. Jeder Verschluss ist chemisch inerte.
Außerdem haben wir viel Zeit in die Behandlung des thermischen Ausdehnungsverhaltens investiert. Die Lampen brechen nicht, wenn sie schnell in Betrieb genommen werden.
Eine Hinweis: Wenn man die Lampen mit maximaler Leistung betreibt, werden sie sehr heiß. Stellen Sie sicher, dass Ihr Vakuum- oder Luftstromsystem mit dieser Hitze zurechtkommt – sonst überhitzt der Gehäusebereich.
In Ihren Arbeitsablauf integrieren
Wir haben die Größe der Lampen so gestaltet, dass sie problemlos in Ihre bestehenden Bearbeitungskammern passen. Sie sind als Ersatzteile konzipiert, sodass Sie nicht stundenlang mit stillstehenden Anlagen zu kämpfen haben.
Da wir hochreine Materialien verwenden, gibt es keine lästigen Trübungen auf der Glaskante – etwas, das bei günstigeren Alternativen oft vorkommt. Die IR-Übertragung bleibt über lange Zeit stabil.
Solange Ihre Stromversorgung stabil und leise ist, erhalten Sie ein perfekt konstantes Temperaturprofil über die gesamte Oberfläche des Wafers. Einfach so.