หลอดไฟสำหรับการประมวลผลแผ่น SiC
ในห้องปฏิบัติการผลิต จะมีแผ่น硅 Carbide ขนาด 150 มม. อยู่ในเครื่อง lithography พร้อมสำหรับการอบด้วยสารโฟโตเรซิสต์...
หลอดไฟอินฟราเรดสำหรับการประมวลผลกราฟีน
ในโรงงานผลิตชิป การควบคุมอุณหภูมิของวัสดุที่ใช้ในกระบวนการผลิตไม่ใช่เรื่องที่สามารถเลือกได้ตามใจชอบ...
เครื่องทำความร้อนสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์ออปติคัล
Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—the step that locks in the photoresist profile. A 2°C drift is all it takes to blow...