Лампа для нагрева при обработке пластин из SiC
На производственном участке находится пластина из СиК диаметром 150 мм, которая находится в устройстве для литографии и готова к обработке с...
Патрон инфракрасной лампы для вафельного инструмента
На слое подложки тепловое дрейфование во время предварительной сушки фотоположения или сушки подложки — это не просто снижение скорости линии. Оно...
Лампа нагрева подложек силовых приборов
На производственном участке любая даже незначительная неточность в прогреве фоторезиста может негативно сказаться на выходе продукции ещё до того,...
Оптический нагреватель для обработки подложек
Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—the step that locks in the photoresist profile. A 2°C drift is all it takes to blow...