Лампа для нагрева при обработке пластин из SiC
На производственном участке находится пластина из СиК диаметром 150 мм, которая находится в устройстве для литографии и готова к обработке с...
Лампа инфракрасного излучения для обработки графена
На производственном полу профили нагрева фоторезиста не являются вопросом выбора – это ключевой фактор, определяющий успех процесса или необходимость...
Оптический нагреватель для обработки подложек
Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—the step that locks in the photoresist profile. A 2°C drift is all it takes to blow...