Di bilik pemprosesan wafer SiC ini, terdapat wafer berukuran 150 mm yang berada di dalam unit litografi, bersedia untuk proses pembakaran photoresist. Perubahan suhu sebanyak beberapa darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi wafer tersebut, dan ini akan menyebabkan kerugian yang besar. Oleh itu, lampu pemanas tersebut bukan sekadar sumber haba biasa – ia perlu berfungsi sebagai alat pemanasan yang tepat.
Apa yang penting dalam reka bentuknya
Lampu pemanas yang digunakan untuk memproses wafer SiC ini dibina menggunakan pengesan inframerah gelombang pendek yang diletakkan dalam pelindung kuarza. Reka bentuk ini memastikan tindak balas yang cepat dan keluaran yang stabil. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula adalah sekitar ±0.5°C antara setiap kumpulan wafer yang diproses. Kepadatan tenaga yang dihasilkan sesuai dengan keperluan proses pembakaran photoresist, dan prestasi pemanasan kekal stabil walaupun setelah 5,000 jam penggunaan, dengan penurunan keluaran kurang dari 5%. Kotak lampu ini juga sesuai untuk digunakan dalam lingkungan kelas kebersihan 1–100, dengan sambungan yang kukuh dan lapisan pelindung yang mencegah pembentukan zarah-zarah semasa operasi.
Mengapa ia sesuai untuk pemprosesan SiC
Proses pemprosesan wafer SiC memerlukan kawalan suhu yang sangat tepat, dan kos setiap wafer juga agak tinggi. Lampu ini memberikan ketepatan yang diperlukan agar proses pembakaran photoresist dapat dilakukan dengan sempurna, tanpa berlaku kesilapan. Kelajuan pemanasan yang tinggi membantu mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan, manakala keluaran yang stabil pula membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Reka bentuk lampu ini disesuaikan agar sesuai dengan standard peralatan semikonduktor antarabangsa, jadi ia boleh digantikan tanpa perlu menyesuaikan seluruh peralatan tersebut.
Beberapa perkara praktikal
Pemasangan lampu ini memerlukan penyambungan yang tepat dengan antaramuka peralatan, serta pengesahan voltan yang digunakan. Kesilapan dalam penyambungan akan menyebabkan ketidakteraturan suhu. Lampu ini boleh digunakan bersama stesen pembakaran biasa, tetapi geometri reflektor perlu diselaraskan mengikut saiz wafer. Adalah disyorkan untuk melakukan kalibrasi segera selepas lampu digantikan, agar parameter proses dapat disesuaikan dengan betul.