Лампа для нагріву пластин SiC під час їх обробки
На заводі з виробництва кристалів SiC є пластини розміром 150 мм, які знаходяться у пристрої для літографії та готові до процедури обробки...
Лампа інфрачервоного випромінювання для обробки графену
На виробничій лінії профілі нагрівання фотополімеру не є просто фактором вибору – це те, що визначає, чи буде продукція готовою до використання, чи...
Оптичний нагрівач для обробки пластин
Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—the step that locks in the photoresist profile. A 2°C drift is all it takes to blow...