Di fasiliti pengeluaran, proses etching dan pengisian TSV tidak meninggalkan ruang untuk berlakunya perubahan suhu yang drastik. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh merosakkan kawalan dimensi yang penting, serta menyebabkan adanya rongga dalam lapisan pengisi TSV tersebut. Pemanas TSV pula memastikan suhu pada permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, sepanjang keseluruhan proses pengeluaran.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina pemanas TSV menggunakan lampu halogen yang responsif dengan cepat, yang disetkan untuk menghasilkan gelombang cahaya inframerah pendek, agar bahan photoresist dan silikon dapat menyerap cahaya tersebut secara langsung. Nilai suhu yang ditetapkan dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, dan kadar perubahan suhu pula kekal stabil pada tahap 0.5°C/s. Sistem ini berfungsi dengan baik dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa menambahkan zarah-zarah berbahaya; bilangan zarah yang terkumpul adalah kurang dari 0.1 zarah/cm². Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan suhu juga kekal terkawal, sekali gus memastikan integriti lapisan pengisi TSV tidak terjejas.
Mengapa ini penting dalam proses pembuatan TSV sebenar
Anda sedang menggunakan struktur TSV dengan jarak antara komponen yang sangat dekat serta lapisan dielektrik yang nipis. Pemanas TSV ini memastikan suhu pada permukaan wafer kekal stabil, sehingga proses pembakaran bahan photoresist dapat dilakukan dengan tepat setiap kali. Hasilnya, proses litografi menjadi lebih stabil, pengulangan kerja berkurangan, dan lapisan pengisi TSV juga dapat dipercayai. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu pemanas dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tanpa perlu menggunakan tenaga yang berlebihan. Ini seterusnya memendekkan masa proses pengeluaran, tanpa mengorbankan kualiti.
Apa yang perlu dirancang
Pemasangan pemanas TSV memerlukan penyesuaian optik yang tepat, serta saluran pengudaraan yang sesuai untuk mengeluarkan gas yang terhasil semasa proses pembakaran. Pemanas ini boleh digunakan bersama antaramuka chuck biasa, tetapi batasan pada alat-alat lama mungkin memerlukan penggunaan adaptator khas. Lakukan ujian pendek untuk menentukan suhu pada permukaan wafer dan menyesuaikan tetapan sistem. Setelah itu, proses pengeluaran dapat dilakukan secara konsisten, dari satu syif ke syif yang lain.