V provozu výroby není termální drift při zpracování fotorezistů jen akademický problém. Projevuje se jako variace šířky čar, problémy s přilnavostí a pokles výtěžnosti, které se s každou výrobní směnou zhoršují. Potřebujete zdroj tepla, který bude spolupracovat s procesem, a ne proti němu. Naše lampy RTP právě to umožňují.
Používáme infračervené emitory krátké a střední vlnové délky v konstrukci typu quartz-halogen – ty zajišťují rychlý a efektivní přenos energie. Díky tomu je dosažena rovnoměrnost teploty na celé ploše waferu v rozsahu ±0,1 °C. Profily teplotního zvyšování jsou také reprodukovatelné a respektují termální limity. Proces odstraňování rozpouštědel je kontrolován, napětí ve vrstvě zůstává stabilní a kontrola kritických rozměrů zůstává v požadovaných mezích. Systém funguje v čisticích prostorách třídy 1–100, bez jakékoli tvorby částic, s pomocí monitorování přímo v provozu a materiálů s nízkou úrovní uvolňování plynů.
Zde je důvod, proč tento systém funguje i v reálném provozu:
Při sušení waferů rychlé a bezkontaktní zahřívání lampy odstraňuje vlhkost, aniž by poškodilo povrch. Při litografii umožňuje precizní kontrolu teploty, což zlepšuje odstraňování nežádoucích struktur na hranách waferu a snižuje počet vad. Při zasychání vrstvy poskytuje stejná lampa konzistentní výkon s reprodukovatelnými profilemi – více waferů za hodinu, přičemž výtěžnost zůstává stejná.
Spotřeba energie klesá, protože energie putuje přímo do vrstvy a waferu, nikoliv do ohřevu komory. Spolehlivost systému je potvrzena více než 5 000 hodinami provozu s poklesem výkonu menším než 5 %, což minimalizuje neplanované přestávky.
Několik praktických poznámek:
Instalace vyžaduje odpovídající velikost lampy a konektoru k vašemu zařízení RTP a také ověření správné orientace optické cesty. Pokud to nejsou splněny, rovnoměrnost teploty se zhorší. Lampa funguje nejlépe v čistém a suchém prostředí s pravidelnou kontrolou emitorů.
Je to náročné, ale lampa neradi snáší náhlé změny napětí – chráněte zdroj napájení a chráníte tak provozní dobu.