ফ্যাব ফ্লোরে, ফটোরেসিস্ট প্রক্রিয়ায় তাপীয় পরিবর্তনগুলো কোনো তাত্ত্বিক সমস্যা নয়। এর ফলে ওয়্যারের লাইনওয়াইডথে পরিবর্তন ঘটে, অ্যাডহেশন সমস্যা দেখা দেয়, আর উৎপাদন ক্ষমতাও কমে যায়। এজন্য এমন একটি তাপ উৎস প্রয়োজন, যা প্রক্রিয়ার সাথে সহযোগিতা করে, নয়তো বাধা হয়। আমাদের RTP ল্যাম্পগুলো ঠিক এটাই করে।
আমরা কোয়ার্টজ-হ্যালোজেন ডিজাইনের শর্ট-ওয়েভ ও মিডিয়াম-ওয়েভ ইনফ্রারেড এমিটারগুলো ব্যবহার করি; এগুলো দ্রুত ও নির্ভুলভাবে তাপ সরবরাহ করে। এর ফলে চাকের উপর ওয়্যারের তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে। সলভেন্ট অপসারণ নিয়ন্ত্রিত হয়, ফিল্মের স্ট্রেস স্থিতিশীল থাকে, আর ক্রিটিক্যাল ডাইমেনশনগুলোও নির্ধারিত মানে থাকে। এই সিস্টেমটি ক্লাস 1–100 ক্লিনরুমে ব্যবহৃত হয়; এখানে কোনো কণা উৎপন্ন হয় না। ইন-সিটু মনিটরিং ও কম গ্যাস নির্গমনকারী উপকরণগুলো এর কার্যকারিতাকে আরও উন্নত করে।
ওয়্যার শুকানোর ক্ষেত্রে, ল্যাম্পটি দ্রুত ও নন-কন্টাক্ট উপায়ে তাপ সরবরাহ করে; ফলে ওয়্যারের পৃষ্ঠে কোনো ক্ষতি হয় না। লিথোগ্রাফির ক্ষেত্রে, এটি নিয়ন্ত্রিত তাপমাত্রায় ওয়্যারকে শুকায়; ফলে এজ বিডস অপসারণ হয় এবং ত্রুটিগুলো কমে যায়। কিউরিংয়ের ক্ষেত্রেও একই ল্যাম্পটি নিয়মিতভাবে কাজ করে; ফলে প্রতি ঘণ্টায় আরও বেশি ওয়্যার তৈরি হয়, আর উৎপাদন ক্ষমতাও কমে না।
এনার্জি ব্যবহার কমে যায়; কারণ এনার্জি সরাসরি ফিল্ম ও ওয়্যারে যায়, চেম্বারকে উত্তপ্ত করতে নয়। 5,000+ ঘণ্টা কাজ করার পরও আউটপুটে 5% এর কম হ্রাস হয়; ফলে অপ্রত্যাশিত বন্ধির সময় প্রায় শূন্য থাকে।
কিছু ব্যবহারিক নোট:
ইনস্টলেশনের সময় ল্যাম্পের আকার ও কানেক্টরগুলোকে RTP টুলের সাথে মেলানো দরকার; অপটিক্যাল পাথটিও সঠিকভাবে সারিবদ্ধ থাকা উচিত। যদি এগুলো ঠিক না থাকে, তাহলে সমানতা নষ্ট হয়। ল্যাম্পটি পরিষ্কার, শুষ্ক গ্যাস পরিবেশে সর্বোত্তমভাবে কাজ করে; নিয়মিতভাবে এমিটারগুলো পরীক্ষা করা দরকার।
হঠাৎ ভোল্টেজ পরিবর্তন ল্যাম্পটিকে ক্ষতিগ্রস্ত করে; তাই পাওয়ার সাপ্লাইকে সুরক্ষিত রাখলেই ল্যাম্পটি সঠিকভাবে কাজ করবে।