Xử Lý on Five-Star Infrared Heating Systems

Đèn sưởi dùng trong quy trình xử lý tấm SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Trong khu vực chế tạo wafer, người ta sử dụng các tấm wafer SiC có kích thước 150 mm, được đặt trong thiết bị in ấn, sẵn sàng để qua quy trình xử lý bằng hóa chất. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi vài độ thôi cũng có thể làm sai lệch các thông số kỹ thuật quan trọng, gây tổn thất lớn về mặt chi phí. Vì vậy, bóng đèn sưởi không thể chỉ đơn thuần là nguồn nhiệt thông thường; nó phải hoạt động như một thiết bị kiểm soát nhiệt độ chính xác.

Đèn hồng ngoại dùng để xử lý graphene

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

Trong quy trình sản xuất, các thông số liên quan đến việc nung phim photoresist không phải là yếu tố có thể tự chọn được; chúng chính là yếu tố quyết định xem sản phẩm có thể được sử dụng hay bị hủy bỏ. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ 2°C trong quá trình nung, điều đó cũng có thể khiến các chi tiết trên wafer bị biến dạng, gây ra nhiều vấn đề trong quy trình sản xuất. Chúng tôi đã thiết kế những bóng đèn hồng ngoại dành cho việc xử lý graphene nhằm loại bỏ những yếu tố phi ổn định này.

Bộ gia nhiệt xử lý tấm wafer quang học

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Trên dây chuyền, wafer 300mm đang chờ bước soft bake—bước khóa cấu hình photoresist. Chỉ một sai lệch 2°C cũng đủ làm sai kích thước quan trọng và phải loại bỏ toàn bộ mẻ. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt xử lý wafer quang học để ngăn điều đó xảy ra.

Dưới đây là những yếu tố thực sự quan trọng bên trong.

Thiết bị sử dụng phát xạ hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) bên trong buồng tăng cường quartz để đạt độ đồng đều nhiệt ở mức ±0.1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Điều này giữ cho cấu hình nhiệt của photoresist ổn định, qua từng chu trình. Việc tuân thủ tiêu chuẩn phòng sạch Class 1–100 không phải là bổ sung; nó được tích hợp ngay trong thiết kế với các cụm kín, vật liệu ít phát thải khí và đường dẫn không bụi để ngăn ngừa ô nhiễm trong vùng nhiệt.