Bộ gia nhiệt xử lý tấm wafer quang học

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Trên dây chuyền, wafer 300mm đang chờ bước soft bake—bước khóa cấu hình photoresist. Chỉ một sai lệch 2°C cũng đủ làm sai kích thước quan trọng và phải loại bỏ toàn bộ mẻ. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt xử lý wafer quang học để ngăn điều đó xảy ra.

Dưới đây là những yếu tố thực sự quan trọng bên trong.

Thiết bị sử dụng phát xạ hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) bên trong buồng tăng cường quartz để đạt độ đồng đều nhiệt ở mức ±0.1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Điều này giữ cho cấu hình nhiệt của photoresist ổn định, qua từng chu trình. Việc tuân thủ tiêu chuẩn phòng sạch Class 1–100 không phải là bổ sung; nó được tích hợp ngay trong thiết kế với các cụm kín, vật liệu ít phát thải khí và đường dẫn không bụi để ngăn ngừa ô nhiễm trong vùng nhiệt.

Quang Học on Five-Star Infrared Heating Systems

Bộ gia nhiệt xử lý tấm wafer quang học