Bánh Wafer on Five-Star Infrared Heating Systems

Đui đèn hồng ngoại cho thiết bị wafer

Tue, 09 Jun 2026 00:56:58 +0800

Trên sàn wafer, sự trôi nhiệt trong quá trình tiền nung lớp nhạy sáng hoặc làm khô wafer không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ dây chuyền. Nó gây ra khuyết tật trên wafer—khuyết tật mà bạn không thể chấp nhận.

Đế đèn hồng ngoại cho thiết bị wafer được thiết kế cho một nhiệm vụ duy nhất: giữ nhiệt độ quá trình ổn định, có thể kiểm soát được và nằm trong giới hạn nhiệt của lớp màng.

Đèn sưởi wafer thiết bị công suất

Sat, 06 Jun 2026 01:02:38 +0800

Trên sàn sản xuất, một chu trình nung photoresist dù chỉ lệch nhẹ cũng có thể làm hỏng tỷ lệ thành phẩm trước khi bạn nhìn thấy nó trên dây chuyền. Với wafer thiết bị công suất, ngân sách nhiệt rất chặt chẽ—đèn sưởi của bạn phải đạt cùng nhiệt độ, theo chu trình, theo lô. Không sai lệch. Không có bất ngờ.

Những điểm quan trọng bên trong

Chúng tôi vận hành các phần tử halogen sóng ngắn bên trong vỏ thạch anh, được điều chỉnh để cung cấp nhiệt bức xạ nhanh và sạch. Hệ thống hướng đến độ đồng đều nhiệt trên wafer trong phạm vi ±0.1°C, ổn định nhanh tại điểm đặt và duy trì dưới tải.

Bộ gia nhiệt xử lý tấm wafer quang học

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Trên dây chuyền, wafer 300mm đang chờ bước soft bake—bước khóa cấu hình photoresist. Chỉ một sai lệch 2°C cũng đủ làm sai kích thước quan trọng và phải loại bỏ toàn bộ mẻ. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt xử lý wafer quang học để ngăn điều đó xảy ra.

Dưới đây là những yếu tố thực sự quan trọng bên trong.

Thiết bị sử dụng phát xạ hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) bên trong buồng tăng cường quartz để đạt độ đồng đều nhiệt ở mức ±0.1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Điều này giữ cho cấu hình nhiệt của photoresist ổn định, qua từng chu trình. Việc tuân thủ tiêu chuẩn phòng sạch Class 1–100 không phải là bổ sung; nó được tích hợp ngay trong thiết kế với các cụm kín, vật liệu ít phát thải khí và đường dẫn không bụi để ngăn ngừa ô nhiễm trong vùng nhiệt.