Processing on Five-Star Infrared Heating Systems

Лампа для нагріву пластин SiC під час їх обробки

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

На заводі з виробництва кристалів SiC є пластини розміром 150 мм, які знаходяться у пристрої для літографії та готові до процедури обробки фотоотповідником. Навіть незначне зміщення температури на кілька градусів може порушити контроль за критичними параметрами, що призведе до значних втрат. Тож лампа-нагрівач не може бути просто джерелом тепла – вона повинна функціонувати як точний термічний пристрій.

Що є важливим у конструкції
Ми створили лампу-нагрівач для обробки пластин SiC на основі короткохвильових інфрачервоних галогенових випромінювачів, розміщених у кварцовому корпусі. Це забезпечує швидку реакцію та стабільну потужність випромінювання. У зоні нагріву досягається однорідність температури на рівні ±0,1°C, а точність регулювання температури становить ±0,5°C між серіями продукції. Швидкість передачі енергії підлаштовується під потреби процедур м’якого та жорсткого нагріву фотоотповідника. Термічний профіль залишається стабільним протягом 5 000+ годин, з втратою потужності менше 5%. Корпус лампи сумісний з умовами чистої кімнати класу 1–100; наявні спеціальні елементи для запобігання утворенню частинок під час роботи.

Лампа інфрачервоного випромінювання для обробки графену

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

На виробничій лінії профілі нагрівання фотополімеру не є просто фактором вибору – це те, що визначає, чи буде продукція готовою до використання, чи доведеться її знищити. Навіть незначна зміна температури на 2°C під час м’якого чи жорсткого нагрівання може призвести до пошкодження поверхні пластини, утворення шарів нальоту та загибелі всієї партії продукції. Ми створили інфрачервоні лампи для обробки графену, які дозволяють уникнути такої невизначеності.

Що насправді має значення з технічної точки зору
Ці лампи випромінюють світло в діапазоні ближнього інфрачервоного спектру, що дозволяє досягти швидкої та контрольованої теплової реакції. Це забезпечує однорідність температури на всій поверхні пластини з точністю до ±0,1°C. Емітер графену зберігає стабільну потужність протягом тисяч годин – пристрої працюють понад 5 000 годин без зниження потужності більш ніж на 5%.

Оптичний нагрівач для обробки пластин

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—the step that locks in the photoresist profile. A 2°C drift is all it takes to blow critical dimensions and scrap the whole lot. We built our optical wafer processing heaters to keep that from ever happening.
Ось на лінії 300-мм пластина чекає на м’який випік — етап, що фіксує профіль фоточутливого шару. Дрейф усього на 2°C достатній, щоб пошкодити критичні розміри та списати всю партію. Ми розробили оптичні нагрівачі для обробки пластин, щоб уникнути таких ситуацій.