Işleme on Five-Star Infrared Heating Systems

SiC yongası işleme ısıtıcı lambası

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Üretim alanında, 150 mm’lik SiC waferleri litografi ünitesinde bulunur ve fotoresistin pişirilmesi için hazır durumdadır. Sadece birkaç derecelik sıcaklık değişikliği bile kritik boyut kontrolünü bozabilir ve büyük maliyetlere yol açabilir. Bu yüzden ısıtıcı lamba sadece bir ısı kaynağı olamaz; tekrarlanabilir bir termal cihaz gibi davranmalıdır.

Önemli olan faktörler
SiC waferlerinin işlenmesi için kullanılan ısıtıcı lambalar, hızlı tepki veren ve stabil çıkış sağlayan kısa dalga boylu kızılötesi halojen ışık kaynaklarından oluşur. Böylece pişirme bölgesinde waferler arasında ±0,1°C’lik bir eşitlik sağlanır ve parti başına ±0,5°C’lik tekrarlanabilirlik elde edilir. Güç yoğunluğu, fotoresistin yumuşak ve sert pişirilmesi için uygun şekilde ayarlanmıştır. Ayrıca, 5.000 saatten fazla kullanım sonrasında bile çıkışta %5’ten az bir düşüş olur. Bu lamba, Class 1–100 standartlarına uygun bir şekilde tasarlanmıştır; bağlantı noktaları ve koruma sistemleri sayesinde işletim sırasında parçacık oluşumu engellenir.

Grafit işleme için kızılötesi lamba

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

Üretim alanında, foto dirençlerin ısıtılma süreçleri bir tercih meselesi değildir; bunlar, ürün kalitesini belirleyen ve ürünlerin atılmasına neden olan faktörlerdir. Yumuşak veya sert ısıtma işlemleri sırasında meydana gelen 2°C’lik bir değişiklik bile CD’lerin konumunu değiştirebilir, yüzeyde kabuk oluşumuna yol açabilir ve tüm ürünlerin kullanılamaz hale gelmesine neden olabilir. Bu belirsizlikleri ortadan kaldırmak için grafen işleme için özel olarak tasarlanmış kızılötesi lambalar geliştirdik.

Teknik olarak asıl önemli olan şeyler Bu lambalar, hızlı ve kontrol edilebilir bir ısıtma sağlayacak şekilde ayarlanmıştır. Böylece, ısıtma yüzeyindeki sıcaklık ±0,1°C aralığında sabit kalır. Grafen emisyon cihazları binlerce saat boyunca stabil bir şekilde çalışır; bu cihazlar 5.000 saatten fazla süreyle %5’ten az verim kaybıyla çalışabilmektedir.

Optik wafer işleme ısıtıcısı

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Hat üzerinde, 300mm wafer yumuşak pişirme için bekliyor—fotoresist profilini kilitleyen adım. Kritik ölçülerde 2°C’lik bir sapma tüm seriyi hurdaya çıkarabilir. Optik wafer işleme ısıtıcılarımızı bunun asla yaşanmaması için tasarladık.
İşte motor kapağı altında gerçekten önemli olanlar.
Ünite, wafer yüzeyinin tamamında ±0.1°C wafer düzeyinde termal uniformiteyi sağlamak için kuvars destekli bir odada kısa dalga kızılötesi (SWIR) emiterlerine dayanır. Bu, fotoresist pişirme profillerinin her çevrimde sabit kalmasını sağlar. Temizoda Class 1–100 uyumluluğu eklenti değil; sızdırmaz montajlar, düşük gaz salınımlı malzemeler ve termal bölgeye partikül girmesini engelleyen partikülsüz yol ile tasarıma entegredir.
Sıfır partikül oluşumu konuşma konusu değil—bu, hat içi metrologi ve kabul test verileriyle desteklenen zorunlu bir gerekliliktir. Bu ısıtıcılar 5.000 saati aşan tasarım ömrü ve bu sürede %5 içinde çıkış stabilitesi ile kesintisiz 7/24 çalışır.
Litoğrafide sıcaklık sadece bir parametre değil—tarifin bir parçasıdır. Bu ısıtıcılar termal bütçeyi korur, kritik boyut (CD) kontrolünü sağlar ve verimliliği sabit tutar. Tekrarlanabilir yumuşak ve sert pişirme elde edilir, yeniden işleme azalır ve bakım planlanabilir hale gelir.
Enerji kullanımı hızlı rampa kontrolü ve hassas bekleme süresi düzenlemesi ile optimize edilir; bu, wafer başına maliyeti düşürürken hassasiyetten ödün vermez.
Montaj ve çalışma kayıtlarından birkaç saha notu: