Lâmpada RTP de alta avaliação para fabricação

Tue, 23 Jun 2026 12:54:22 +0800

Na linha de produção, a deriva térmica no processo de tratamento do fotoresist não é um problema meramente teórico. Ela se manifesta como variações no espessura da camada fotográfica, problemas de adesão e perda de produtividade, que pioram com o passar das etapas de produção. É necessário ter uma fonte de calor que funcione em harmonia com o processo, e não contra ele. As lâmpadas RTP oferecem exatamente isso.

Utilizamos emissores de infravermelho de onda curta e média, com design de quartzo-halógeno, que permitem uma transferência rápida e eficiente de energia. Isso garante uma uniformidade de temperatura na superfície dos wafers dentro de ±0,1°C, além de um perfil de aquecimento previsível, respeitando assim o limite térmico estabelecido. O processo de secagem e cura torna-se mais consistente: a remoção de solventes é controlada, a tensão na camada fotográfica permanece estável, e o controle das dimensões críticas segue as especificações desejadas. O sistema funciona em salas limpas de classe 1–100, sem geração de partículas, contando com monitoramento em tempo real e materiais com baixa emissão de gases.

RTP on Five-Star Infrared Heating Systems

Lâmpada RTP de alta avaliação para fabricação