Lampu RTP yang paling berkualiti untuk digunakan dalam proses pembuatan.

Tue, 23 Jun 2026 12:54:22 +0800

Di bilik pemprosesan wafer, masalah perubahan suhu semasa proses penggunaan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Masalah ini akan menyebabkan variasi lebar garisan pada permukaan wafer, masalah ketepatan penempelan bahan tersebut pada wafer, serta penurunan kadar pengeluaran wafer dari satu sesi ke sesi yang lain. Oleh itu, diperlukan sumber haba yang dapat bekerjasama dengan proses tersebut, bukannya menghalangnya. Lampu RTP kami memenuhi syarat ini dengan sempurna.

Lampu ini menggunakan pemanas inframerah berfrekuensi pendek dan sederhana, yang direka khusus untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan efisien. Dengan cara ini, suhu pada permukaan wafer dapat dikawal dengan tepat, dalam lingkungan ±0.1°C. Selain itu, proses pembakaran bahan pada wafer juga dapat dilakukan secara konsisten, tanpa menjejaskan kualiti wafer. Pembebasan bahan pelarut juga dapat dikawal dengan baik, dan dimensi penting wafer tetap terkawal. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa adanya zarah-zarah berbahaya. Semua ini disokong oleh sistem pemantauan masa nyata serta penggunaan bahan-bahan yang tidak menghasilkan gas berbahaya.

RTP on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampu RTP yang paling berkualiti untuk digunakan dalam proses pembuatan.