Pemprosesan on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Di bilik pemprosesan wafer SiC ini, terdapat wafer berukuran 150 mm yang berada di dalam unit litografi, bersedia untuk proses pembakaran photoresist. Perubahan suhu sebanyak beberapa darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi wafer tersebut, dan ini akan menyebabkan kerugian yang besar. Oleh itu, lampu pemanas tersebut bukan sekadar sumber haba biasa – ia perlu berfungsi sebagai alat pemanasan yang tepat.

Apa yang penting dalam reka bentuknya
Lampu pemanas yang digunakan untuk memproses wafer SiC ini dibina menggunakan pengesan inframerah gelombang pendek yang diletakkan dalam pelindung kuarza. Reka bentuk ini memastikan tindak balas yang cepat dan keluaran yang stabil. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula adalah sekitar ±0.5°C antara setiap kumpulan wafer yang diproses. Kepadatan tenaga yang dihasilkan sesuai dengan keperluan proses pembakaran photoresist, dan prestasi pemanasan kekal stabil walaupun setelah 5,000 jam penggunaan, dengan penurunan keluaran kurang dari 5%. Kotak lampu ini juga sesuai untuk digunakan dalam lingkungan kelas kebersihan 1–100, dengan sambungan yang kukuh dan lapisan pelindung yang mencegah pembentukan zarah-zarah semasa operasi.

Lampu inframerah untuk pemprosesan grafena

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

Di bilik pengeluaran, profil pemanasan bahan fotorezist bukanlah sesuatu yang boleh dipilih secara sewenang-wenangnya – ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada proses pengeluaran akan berjaya atau sebaliknya. Perbezaan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada struktur wafer, serta mengakibatkan kegagalan keseluruhan proses pengeluaran. Kami telah mencipta lampu inframerah khusus untuk pemprosesan grafena, agar ketidakpastian tersebut dapat dielakkan.

Apa yang benar-benar penting dari segi teknikal
Lampu ini menghasilkan cahaya inframerah yang tepat, sehingga memungkinkan suhu permukaan wafer tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C. Emitter grafena pula mampu memberikan sinaran yang stabil selama ribuan jam; unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.

Pemanas pemprosesan wafer optik

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, wafer 300mm itu menunggu untuk proses soft bake—langkah yang mengunci profil photoresist. Perubahan 2°C sahaja sudah memadai untuk merosakkan dimensi kritikal dan membuang keseluruhan lot. Kami membina pemanas pemprosesan wafer optik kami supaya perkara itu tidak berlaku.

Ini perkara yang benar-benar penting di dalamnya.

Unit ini bergantung pada pemancar inframerah gelombang pendek (SWIR) dalam ruang yang diperkaya kuarza untuk mencapai keseragaman suhu peringkat wafer ±0.1°C di seluruh permukaan. Ini memastikan profil bake photoresist terkunci, kitaran demi kitaran. Pematuhan Cleanroom Kelas 1–100 bukan sekadar tambahan; ia tertanam dalam reka bentuk dengan pemasangan kedap, bahan rendah pengeluaran gas, dan laluan tanpa zarah yang mengekang pencemaran daripada zon terma.