Alat ganti lampu litografi ASML

Sat, 27 Jun 2026 01:21:03 +0800

Di bilik pengeluaran, anda pasti tahu prosedurnya: sebarang perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi yang diperlukan, dan ini akan menyebabkan kerugian yang besar dari segi penggunaan wafer. Anda memerlukan lampu ganti yang mampu mengekalkan suhu yang stabil, bukannya suhu yang berubah-ubah. Lampu ganti ASML kami memenuhi syarat tersebut, dengan suhu yang konsisten, sekaligus memastikan proses pengeluaran berjalan lancar.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina lampu ini agar ia dapat menghasilkan haba yang stabil dan boleh diramal. Unsur halogen berfrekuensi rendah yang disimpan dalam kuarsa berkualiti tinggi membolehkan respons yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat, sehingga suhu wafer tetap konsisten. Kekonsistenan suhu di kawasan pemanasan adalah antara ±0.1°C, yang membantu memastikan ketepatan lebar garisan pada wafer dan mengurangkan variasi antara batch yang berbeza. Lampu ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan sebarang zarah semasa beroperasi. Dengan ini, kualiti produk dapat dipertahankan, dan hayat lampu juga panjang—lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Profil tenaga lampu ini juga sesuai dengan keperluan sistem ASML.

ASML on Five-Star Infrared Heating Systems

Alat ganti lampu litografi ASML