Wafer on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampada riscaldante per il trattamento dei wafer in SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Nello stabilimento di produzione, c’è un wafer di SiC da 150 mm che si trova all’interno della cella di litografia, pronto per la fase di essiccazione del fotorestista. Anche una piccola variazione di temperatura può compromettere il controllo delle dimensioni critiche del wafer, con conseguenze molto negative dal punto di vista economico. Pertanto, la lampada utilizzata per riscaldare il wafer non può essere semplicemente una fonte di calore: deve funzionare come uno strumento termico preciso e affidabile.

Portalampada a infrarossi per utensile wafer

Tue, 09 Jun 2026 00:56:58 +0800

Sulla superficie del wafer, la deriva termica durante il pre-bake del fotoresist o l’asciugatura del wafer non è solo un problema di velocità di linea. Essa provoca difetti sul wafer—difetti che non puoi permetterti.

Le prese per lampade a infrarossi per strumenti da wafer sono progettate attorno a un obiettivo: mantenere la temperatura del processo dove deve essere—stabile, ripetibile e all’interno del budget termico del film.

Cosa conta realmente sotto il cofano
Utilizziamo emettitori a infrarossi a onda corta abbinati a una presa in quarzo e una geometria di riflettore che indirizza il calore dove lo desideri—rapidamente e in modo direzionale—senza punti caldi.
Questo ti garantisce un’uniformità a livello di wafer entro ±0.1°C nella zona di cottura. L’innalzamento della temperatura è controllato, quindi i solventi si eliminano pulitamente durante il soft bake, e il profilo del resist rimane compatto dopo il hard bake.
L’interfaccia della presa è progettata per essere inserita negli strumenti: ingombro compatto, montaggio standard e contatto elettrico solido. Il risultato è una produzione consistente lotto dopo lotto.

Lampada di riscaldamento per wafer di dispositivi di potenza

Sat, 06 Jun 2026 01:02:38 +0800

Sulla linea di produzione, una cottura del photoresist anche leggermente sbagliata può compromettere la resa prima ancora che sia visibile in linea. Nel caso di wafer per dispositivi di potenza, il budget termico è ristretto: la lampada di riscaldamento deve raggiungere la stessa temperatura, ciclo dopo ciclo, lotto dopo lotto. Nessuna deriva. Nessuna sorpresa.

Cosa conta sotto il cofano

Utilizziamo elementi alogeni a onda corta all’interno di un involucro in quarzo, ottimizzati per un calore radiante rapido e pulito. Il sistema mira a un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C, raggiunge rapidamente il setpoint e lo mantiene sotto carico.
È progettato per cleanroom Class 1–100: materiali a basso outgassing e una geometria che limita la generazione di particelle. La emissione è ripetibile per operazioni 24/7, con lunga durata degli elementi e output spettrale stabile, così i profili di soft bake e hard bake rimangono costanti.

Riscaldatore per la lavorazione ottica di wafer

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, quel wafer da 300mm attende il soft bake—la fase che fissa il profilo del photoresist. Una deriva di 2°C è sufficiente per compromettere le dimensioni critiche e scartare l’intero lotto. Abbiamo progettato i nostri riscaldatori ottici per wafer per evitare che ciò accada.

Ecco cosa conta realmente sotto il cofano.

L’unità si basa su emettitori a infrarosso a onde corte (SWIR) all’interno di una camera potenziata in quarzo per raggiungere un’uniformità termica a livello wafer di ±0,1°C su tutta la superficie. Questo mantiene i profili di cottura del photoresist costanti, ciclo dopo ciclo. La conformità alla Cleanroom Class 1–100 non è un’aggiunta; è integrata nel design con assiemi sigillati, materiali a basso outgassing e un percorso privo di particelle che impedisce la contaminazione nella zona termica.