Lampada RTP di alta qualità per la fabbricazione

Tue, 23 Jun 2026 12:54:22 +0800

Nelle linee di produzione, la deriva termica durante il processo di trattamento del fotoresist non è certo un problema teorico. Si manifesta attraverso variazioni nella larghezza delle linee tracciate, problemi legati all’adesione del fotoresist e una diminuzione della resa produttiva, che peggiora di turno in turno. È necessario utilizzare una sorgente di calore che collabori con il processo, e non che lo ostacoli. Le nostre lampade RTP offrono proprio questo vantaggio.

Utilizziamo emettitori a infrarossi a onde corte e medie, progettati in modo da garantire una trasmissione energetica rapida e precisa. Questo permette di ottenere una uniformità della temperatura su tutto il wafer, entro ±0,1°C, oltre a un profilo di riscaldamento ripetibile, rispettando i limiti termici richiesti. Il processo di essiccazione diventa quindi più preciso: la rimozione dei solventi avviene in modo controllato, lo stress sulla pellicola resta stabile e i parametri critici vengono mantenuti entro i limiti previsti. Il sistema funziona in ambienti puliti di classe 1–100, senza generazione di particelle, grazie a un monitoraggio continuo e all’uso di materiali con bassa emissione di gas.

Valutato on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampada RTP di alta qualità per la fabbricazione