Portalampada a infrarossi per utensile wafer

Tue, 09 Jun 2026 00:56:58 +0800

Sulla superficie del wafer, la deriva termica durante il pre-bake del fotoresist o l’asciugatura del wafer non è solo un problema di velocità di linea. Essa provoca difetti sul wafer—difetti che non puoi permetterti.

Le prese per lampade a infrarossi per strumenti da wafer sono progettate attorno a un obiettivo: mantenere la temperatura del processo dove deve essere—stabile, ripetibile e all’interno del budget termico del film.

Cosa conta realmente sotto il cofano
Utilizziamo emettitori a infrarossi a onda corta abbinati a una presa in quarzo e una geometria di riflettore che indirizza il calore dove lo desideri—rapidamente e in modo direzionale—senza punti caldi.
Questo ti garantisce un’uniformità a livello di wafer entro ±0.1°C nella zona di cottura. L’innalzamento della temperatura è controllato, quindi i solventi si eliminano pulitamente durante il soft bake, e il profilo del resist rimane compatto dopo il hard bake.
L’interfaccia della presa è progettata per essere inserita negli strumenti: ingombro compatto, montaggio standard e contatto elettrico solido. Il risultato è una produzione consistente lotto dopo lotto.

Socket on Five-Star Infrared Heating Systems

Portalampada a infrarossi per utensile wafer