Lampada riscaldante per il trattamento dei wafer in SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Nello stabilimento di produzione, c’è un wafer di SiC da 150 mm che si trova all’interno della cella di litografia, pronto per la fase di essiccazione del fotorestista. Anche una piccola variazione di temperatura può compromettere il controllo delle dimensioni critiche del wafer, con conseguenze molto negative dal punto di vista economico. Pertanto, la lampada utilizzata per riscaldare il wafer non può essere semplicemente una fonte di calore: deve funzionare come uno strumento termico preciso e affidabile.

SiC on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampada riscaldante per il trattamento dei wafer in SiC