Lampada di riscaldamento per wafer di dispositivi di potenza

Sat, 06 Jun 2026 01:02:38 +0800

Sulla linea di produzione, una cottura del photoresist anche leggermente sbagliata può compromettere la resa prima ancora che sia visibile in linea. Nel caso di wafer per dispositivi di potenza, il budget termico è ristretto: la lampada di riscaldamento deve raggiungere la stessa temperatura, ciclo dopo ciclo, lotto dopo lotto. Nessuna deriva. Nessuna sorpresa.

Cosa conta sotto il cofano

Utilizziamo elementi alogeni a onda corta all’interno di un involucro in quarzo, ottimizzati per un calore radiante rapido e pulito. Il sistema mira a un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C, raggiunge rapidamente il setpoint e lo mantiene sotto carico.
È progettato per cleanroom Class 1–100: materiali a basso outgassing e una geometria che limita la generazione di particelle. La emissione è ripetibile per operazioni 24/7, con lunga durata degli elementi e output spettrale stabile, così i profili di soft bake e hard bake rimangono costanti.

Potere on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampada di riscaldamento per wafer di dispositivi di potenza

Cosa conta sotto il cofano