Elaborazione on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampada riscaldante per il trattamento dei wafer in SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Nello stabilimento di produzione, c’è un wafer di SiC da 150 mm che si trova all’interno della cella di litografia, pronto per la fase di essiccazione del fotorestista. Anche una piccola variazione di temperatura può compromettere il controllo delle dimensioni critiche del wafer, con conseguenze molto negative dal punto di vista economico. Pertanto, la lampada utilizzata per riscaldare il wafer non può essere semplicemente una fonte di calore: deve funzionare come uno strumento termico preciso e affidabile.

Lampada a infrarossi per la lavorazione del grafene

Sat, 20 Jun 2026 01:57:28 +0800

Nelle linee di produzione, i parametri legati al processo di essiccazione del fotorestatore non sono semplicemente una questione di preferenza: rappresentano infatti il fattore decisivo tra il successo della produzione e lo spreco di materiale. Un cambiamento di temperatura di 2°C durante il processo di essiccazione può causare problemi, come la formazione di depositi indesiderati sulla superficie dei wafer, con conseguente rottura dell’intera produzione. Abbiamo progettato le nostre lampade a infrarossi specificamente per eliminare questa incertezza.

Riscaldatore per la lavorazione ottica di wafer

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, quel wafer da 300mm attende il soft bake—la fase che fissa il profilo del photoresist. Una deriva di 2°C è sufficiente per compromettere le dimensioni critiche e scartare l’intero lotto. Abbiamo progettato i nostri riscaldatori ottici per wafer per evitare che ciò accada.

Ecco cosa conta realmente sotto il cofano.

L’unità si basa su emettitori a infrarosso a onde corte (SWIR) all’interno di una camera potenziata in quarzo per raggiungere un’uniformità termica a livello wafer di ±0,1°C su tutta la superficie. Questo mantiene i profili di cottura del photoresist costanti, ciclo dopo ciclo. La conformità alla Cleanroom Class 1–100 non è un’aggiunta; è integrata nel design con assiemi sigillati, materiali a basso outgassing e un percorso privo di particelle che impedisce la contaminazione nella zona termica.