Asciugatore FOUP (Front Opening Unified Pod)

Tue, 30 Jun 2026 01:29:28 +0800

Nel reparto di litografia, la FOUP continua a ruotare, portando con sé uno strato sottile di acqua residuo dalla procedura di pulizia precedente. Se il processo di essiccazione non avviene correttamente, il profilo del fotoresist cambia, e il controllo delle dimensioni critiche diventa difficile, ancora prima che inizi l’esposizione. È necessario quindi un essiccatore per FOUP in grado di rimuovere l’umidità e mantenere una temperatura costante, senza alcuna incertezza.

Cosa è importante davvero
Utilizziamo onde infrarosse a media lunghezza per un riscaldamento rapido e diretto, senza che si creino particelle nell’ambiente. L’uniformità a livello di wafer rimane entro ±0,1°C, permettendo così a ogni wafer di ricevere lo stesso trattamento termico durante i processi di essiccazione. La compatibilità con le ambientazioni di tipo Class 1–100 è garantita da flussi d’aria controllati e materiali che emettono poche particelle, riducendo così il numero di particelle presenti nell’ambiente. Il riscaldatore è progettato per funzionare 24/7; la sua affidabilità viene valutata in base ai tempi di funzionamento e agli intervalli di manutenzione, e non in base a criteri commerciali.

Apertura on Five-Star Infrared Heating Systems

Asciugatore FOUP (Front Opening Unified Pod)