Mantenere la sala pulita di classe 100 davvero pulita
Se si riscalda dei wafer di silicio in un ambiente di classe 100, si conosce bene il problema legato all’emissione di gas tossici. Basta un piccolo frammento di materiale o una sostanza volatile per rendere tutto il lotto inutilizzabile. È davvero frustrante.
Ecco perché abbiamo smesso di utilizzare elementi riscaldanti tradizionali. Invece, utilizziamo lampade a infrarossi realizzate in quarzo sintetico ad alta purezza.
Perché il quarzo?
I riscaldatori rivestiti di metallo tendono a ossidarsi o a deteriorarsi nel tempo. Questo rappresenta un vero disastro in un ambiente pulito. Il nostro quarzo fuso è abbastanza puro da impedire la migrazione degli ioni metallici. Inoltre, si tratta di un processo senza contatto fisico: le radiazioni a infrarossi colpiscono direttamente la superficie del wafer. Niente contatti, niente sfregamenti, nessuna abrasione fisica. È semplicemente energia pura e diretta.
L’approccio “Zero-Inquinamento”
Abbiamo eliminato ogni tipo di componente inutile: nessun adesivo, nessun polimero economico… niente che possa emettere gas o particelle. Ogni elemento di sigillamento è chimicamente inerte.
Abbiamo anche dedicato molto tempo allo studio dell’espansione termica di questi dispositivi. Questi tubi non si rompono nemmeno quando vengono utilizzati a piena potenza.
Un avvertimento però: quando vengono utilizzati a piena potenza, diventano davvero caldi. Assicuratevi quindi che il sistema di aspirazione o di ventilazione sia in grado di gestire quel calore, altrimenti il dispositivo potrebbe surriscaldarsi.
Integrarli nel proprio processo produttivo
Abbiamo progettato questi dispositivi in modo che possano essere inseriti facilmente nelle camere di lavorazione esistenti. Sono progettati come sostituti immediati, quindi non dovrete interrompere il processo di produzione per ore.
Inoltre, poiché utilizziamo materiali ad alta purezza, non verrete disturbati da quella fastidiosa “nebbia” che si forma di solito sui vetri dei dispositivi di qualità inferiore. La trasmissione delle radiazioni a infrarossi rimane elevata nel tempo.
Basta che la fonte di alimentazione sia stabile e silenziosa, per ottenere un profilo termico uniforme su tutto il wafer. Tutto qui.