Lampu pemanas untuk proses pengolahan wafer SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Di area pengolahan wafer SiC, terdapat wafer berdiameter 150 mm yang berada di dalam alat litografi, siap untuk proses pemanasan menggunakan bahan fotoresist. Perubahan suhu sebesar beberapa derajat saja dapat mengacaukan kontrol dimensi wafer, dan hal ini tentu akan merugikan Anda secara finansial. Oleh karena itu, lampu pemanas tersebut tidak boleh sekadar menjadi sumber panas biasa; ia harus berfungsi sebagai alat pemanas yang dapat memberikan hasil yang konsisten setiap kali digunakan.

Hal-hal penting yang perlu diperhatikan Lampu pemanas untuk pengolahan wafer SiC ini dibuat menggunakan emitter inframerah berpanjang gelombang pendek yang terletak di dalam selubung kuarsa. Desainnya memungkinkan respons yang cepat dan keluaran yang stabil. Konsistensi suhu pada wafer mencapai ±0,1°C di seluruh area pemanasan, sedangkan tingkat repetibilitasnya mencapai ±0,5°C antara satu batch produksi dengan batch lainnya. Density dayanya disesuaikan dengan kebutuhan proses pemanasan fotoresist, sehingga profil termalnya tetap stabil bahkan setelah digunakan selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan keluaran kurang dari 5%. Kemasan lampu ini cocok untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan sambungan yang rapat dan lapisan pelindung yang mencegah munculnya partikel selama proses operasi.

SiC on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampu pemanas untuk proses pengolahan wafer SiC