Di area pengolahan wafer SiC, terdapat wafer berdiameter 150 mm yang berada di dalam alat litografi, siap untuk proses pemanasan menggunakan bahan...

Di lini produksi, profil pemanasan bahan fotorezist bukanlah hal yang bisa diabaikan begitu saja—hal tersebut merupakan faktor penentu antara produk...

Out on the line, wafer 300mm itu menunggu proses soft bake—langkah yang mengunci profil photoresist. Pergeseran suhu sebesar 2°C saja sudah cukup...