<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Melalui on Five-Star Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heater-star.com/id/tags/melalui/</link>
		<description>Recent content in Melalui on Five-Star Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 00:59:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-star.com/id/tags/melalui/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas TSV (Through Silicon Via)</title>
				<link>http://ir-heater-star.com/id/posts/tsv-through-silicon-via-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 00:59:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-star.com/id/posts/tsv-through-silicon-via-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-star.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pemanas TSV (Through Silicon Via)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area produksi, proses etching dan pengisian TSV tidak memberikan ruang untuk terjadinya pergeseran suhu. Perubahan suhu sebesar 2°C &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;selama&lt;/a&gt; proses pemanasan fotoresist dapat merusak kontrol dimensi yang penting, serta menyebabkan adanya rongga di bagian yang diisi oleh bahan pengisi tersebut. Pemanas TSV mempertahankan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer pada kisaran ±0,1°C, sepanjang seluruh proses produksi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan lampu halogen yang memiliki respons cepat, yang disetel untuk mengeluarkan sinar inframerah pendek, sehingga fotoresist dan silikon dapat menyerap energi tersebut secara efektif. Suhu dapat dikendalikan dalam waktu kurang dari satu detik, dan laju perubahan suhu tetap stabil pada kisaran 0,5°C/detik. Sistem ini dapat beroperasi di ruangan bersih &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;kelas&lt;/a&gt; 1–100, tanpa menambahkan partikel apa pun, dengan tingkat partikel ≤0,1 partikel/cm². Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa adanya downtime yang tidak terduga, dan tingkat suhu tetap terkendali, sehingga integritas lapisan pelindung wafer tetap terjaga.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
