SiC वेफर प्रोसेसिंग हीटर लैंप

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

फैब्रिकेशन फ्लोर पर, 150 मिमी आकार के SiC वेफर, लिथोग्राफी सेल में रखे जाते हैं; ये वेफर फोटोरेजिस्ट बेकिंग के लिए तैयार होते हैं। केवल कुछ डिग्री का तापमान-परिवर्तन भी वेफरों के आकार/आकृति पर बुरा प्रभाव डाल सकता है, जिससे बहुत नुकसान हो सकता है। इसलिए, हीटर लैंप केवल एक ऊष्मा-स्रोत नहीं हो सकता; इसे ऐसे ही डिज़ाइन किया जाना चाहिए कि यह एक स्थिर ऊष्मा-स्रोत के रूप में कार्य कर सके।

क्या महत्वपूर्ण है?
हमने SiC वेफरों के प्रसंस्करण हेतु हीटर लैंप को क्वार्ट्ज आवरण में लगे शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड हैलोजन एमिटर्स के आधार पर डिज़ाइन किया है; इससे तेज़ प्रतिक्रिया एवं स्थिर आउटपुट प्राप्त होता है। बेकिंग क्षेत्र में वेफरों का तापमान ±0.1°C के भीतर स्थिर रहता है, एवं विभिन्न बैचों में तापमान की स्थिरता ±0.5°C होती है। ऊर्जा-घनत्व, फोटोरेजिस्ट बेकिंग की आवश्यकताओं के अनुरूप होता है; 5,000 घंटों तक भी आउटपुट में 5% से कम की कमी आती है। यह उपकरण क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में भी उपयोग किया जा सकता है; इसमें ऐसी संरचनाएँ हैं जो संचालन के दौरान किसी भी प्रकार के कणों के उत्पन्न होने को रोकती हैं।

SiC on Five-Star Infrared Heating Systems

SiC वेफर प्रोसेसिंग हीटर लैंप