Traitement on Five-Star Infrared Heating Systems

Lampe chauffante pour le traitement des wafers en SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Dans l’usine de fabrication, on trouve une galette en SiC de 150 mm de diamètre, placée dans la cellule de lithographie, prête pour le traitement par résistant photochimique. Une déviation de température de quelques degrés seulement peut perturber le contrôle des dimensions critiques, ce qui entraîne des coûts importants. Par conséquent, la lampe chauffante ne doit pas être simplement une source de chaleur : elle doit fonctionner comme un instrument thermique fiable et reproductible.

Lampe infrarouge pour le traitement du graphène

Sat, 20 Jun 2026 01:57:28 +0800

Sur le plan de fabrication, les profils de cuisson du photorésiste ne sont pas une simple question de préférence : ils déterminent en réalité si l’on obtient un résultat satisfaisant ou si tout doit être rejeté. Une déviation de 2 °C pendant la cuisson peut entraîner des problèmes tels que des dépôts sur la surface du wafer, ce qui peut entraîner l’échec de toute la production. Nous avons conçu nos lampes à infrarouges pour éliminer cette incertitude.

Chauffage pour le traitement optique des wafers

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Sur la ligne de production, cette plaquette de 300 mm attend son soft bake — l’étape qui verrouille le profil du photoresist. Un dérive de 2°C suffit à compromettre les dimensions critiques et à rejeter tout le lot. Nous avons conçu nos chauffages optiques pour plaquettes afin d’éviter que cela ne se produise.

Voici ce qui compte réellement sous le capot.

L’unité s’appuie sur des émetteurs infrarouges à ondes courtes (SWIR) dans une chambre optimisée en quartz pour atteindre une uniformité thermique au niveau de la plaquette de ±0,1°C sur toute la surface. Cela maintient les profils de cuisson du photoresist stables, cycle après cycle. La conformité aux classes de salle blanche 1–100 n’est pas un ajout, elle est intégrée dès la conception grâce à des assemblages étanches, des matériaux à faible émission de gaz et un chemin sans particules qui empêche toute contamination dans la zone thermique.