Remplacement de la lampe à pas Nikon

Fri, 19 Jun 2026 02:06:13 +0800

Sur les lignes de lithographie, une lampe Nikon qui présente des fluctuations dans sa puissance ou sa température ne se contente pas d’atténuer la lumière. Elle perturbe également le processus d’exposition. Par conséquent, le photo-résistant ne se développe pas correctement lors des étapes de séchage. On constate alors des variations dans l’épaisseur des lignes tracées, ainsi que des défauts résiduels. Tout cela est causé par un composant que beaucoup de gens négligent.

Ce qui compte vraiment, du point de vue technique Nous sélectionnons pour remplacer les lampes Nikon des sources halogènes stables, dotées d’enveloppes en quartz et offrant une sortie contrôlée en longueurs d’onde courtes et moyennes. Ces caractéristiques permettent de maintenir une homogénéité thermique de ±0,1°C sur toute la surface à sécher. Ainsi, les profils de séchage restent constants d’une run à l’autre. Le système est conçu pour fonctionner dans des conditions de salle propre de classe 1–100 : matériaux à faible émission de gaz, absence de génération de particules, et interface hermétique pour limiter le nombre de particules et les défauts. On obtient ainsi une fiabilité 24/7, avec une durée de vie de plus de 5 000 heures et une sortie lumineuse stable. Les séquences d’exposition et de séchage ne sont donc pas interrompues.

Pas À Pas on Five-Star Infrared Heating Systems

Remplacement de la lampe à pas Nikon