Processing on Five-Star Infrared Heating Systems

لامپ گرمکن برای فرآوری ویفر SiC

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

در خط تولید، ویفرهای SiC به قطر ۱۵۰ میلی‌متر در دستگاه لیتوگرافی قرار دارند و آماده فرآیند پختن رزیست فوتوگرافیک هستند. حتی کمترین تغییر در دما می‌تواند باعث اختلال در کنترل ابعاد مهم ویفر شود و هزینه‌های زیادی را برای شما به همراه داشته باشد. بنابراین، لامپ گرمایشی نباید صرفاً منبع گرما باشد؛ بلکه باید مانند یک دستگاه اندازه‌گیری دقیق عمل کند.

نکات مهم درباره این لامپ
لامپ گرمایشی مورد استفاده برای پردازش ویفرهای SiC، از امیترهای اینفرارد با طول موج کوتاه درون پوشش کوارتز ساخته شده است؛ این امیترها برای پاسخگویی سریع و تولید خروجی پایدار طراحی شده‌اند. در نتیجه، یکنواختی دما در سطح ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد حاصل می‌شود؛ همچنین، تکرارپذیری دما نیز در محدوده ±۰.۵ درجه سانتی‌گراد است. تراکم انرژی این لامپ متناسب با الگوهای پختن رزیست فوتوگرافیک است؛ همچنین، پروفایل حرارتی آن حتی پس از ۵٬۰۰۰ ساعت کارکرد نیز تغییری نمی‌کند و کاهش خروجی کمتر از ۵٪ خواهد بود. این لامپ با استانداردهای اتاق‌های تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ سازگار است؛ همچنین، اتصالات آن به گونه‌ای طراحی شده‌اند که در حین کار، تولید ذرات در آن صفر باشد.

لامپ مادون قرمز برای پردازش گرافن

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

در خط تولید، پروفیل‌های حرارتی مربوط به فرآیند پختن رزیستورهای فوتوگرافی، چیزی اختیاری نیستند؛ بلکه تعیین‌کننده‌ی موفقیت یا شکست فرآیند تولید هستند. تغییر ۲ درجه‌ای دما در طول فرآیند پختن، می‌تواند باعث تغییراتی در کیفیت ویفرها شود و در نهایت منجر به از بین رفتن کل محموله تولید شود. ما لامپ‌های مادون قرمز مخصوص پردازش گرافن را طوری طراحی کرده‌ایم که این عدم قطعیت‌ها را از بین ببرند.

آنچه از نظر فنی اهمیت دارد: این لامپ‌ها، نور مادون قرمزی تولید می‌کنند که برای پاسخگویی سریع و کنترل‌شده‌ی حرارتی مناسب است؛ بنابراین، یکنواختی دما در سطح ویفرها در محدوده±۰.۱ درجه حفظ می‌شود. منبع نور گرافن نیز، هزاران ساعت به طور پایدار کار می‌کند؛ در واقع، این لامپ‌ها بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار کرده‌اند و کاهش خروجی آن‌ها کمتر از ۵٪ بوده است.

گرمکننده فرآوری ویفر نوری

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

روی خط، آن ویفر 300mm منتظر پخت نرم خود است—مرحله‌ای که پروفایل فوتورزیست را تثبیت می‌کند. انحراف 2°C کافی است تا ابعاد بحرانی را به هم بریزد و کل دسته تولید را ضایعات کند. ما گرم‌کن‌های پردازش نوری ویفر خود را طوری ساختیم که این اتفاق هرگز نیفتد.
در ادامه، نکات کلیدی داخلی سیستم را بررسی می‌کنیم.
واحد بر اساس تابش‌کننده‌های مادون‌قرمز موج کوتاه (SWIR) درون محفظه‌ای تقویت‌شده با کوارتز طراحی شده تا یکنواختی حرارتی سطح ویفر را در محدوده ±0.1°C در سراسر سطح حفظ کند. این کار پروفایل‌های پخت فوتورزیست را در هر چرخه تثبیت می‌کند. تطابق با کلاس تمیزی cleanroom از 1 تا 100 یک گزینه اضافی نیست؛ بلکه در طراحی با مجموعه‌های کاملاً مهر و موم‌شده، مواد کم‌خروجی و مسیر عاری از ذرات که آلودگی را از منطقه حرارتی دور نگه می‌دارد، تعبیه شده است.
تولید صفر ذره یک ادعا نیست—یک الزام سخت‌گیرانه است که با داده‌های متروژی خطی و تست پذیرش پشتیبانی می‌شود. این گرم‌کن‌ها به صورت 24/7 بدون هیچ توقف برنامه‌ریزی‌نشده کار می‌کنند، با عمر طراحی بیش از 5,000 ساعت و پایداری خروجی در محدوده 5% در این بازه.
در لیتوگرافی، دما فقط یک پارامتر نیست—جزئی از فرمول فرآیند است. این گرم‌کن‌ها بودجه حرارتی را حفظ، کنترل ابعاد بحرانی (CD) را محافظت و بازده تولید را ثابت نگه می‌دارند. پخت نرم و سخت قابل تکرار، کاهش دوباره‌کاری و نگهداری برنامه‌ریزی‌شده از مزایای آن است.
مصرف انرژی با کنترل سریع افزایش دما و تنظیم دقیق زمان نگهداری کاهش یافته است که هزینه هر ویفر را بدون کاهش دقت پایین می‌آورد.
چند نکته میدانی، مستقیماً از برگه‌های نصب و راه‌اندازی: