Verarbeitung on Five-Star Infrared Heating Systems

Heizlampe für den Bearbeitungsprozess von SiC Wafers

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

Auf der Fertigungsebene befindet sich eine 150-mm-SiC-Wafer in der Lithografieanlage – bereit für den Prozess der Behandlung mit Photoresist. Selbst geringfügige Temperaturverschiebungen von ein paar Grad können die Kontrolle über die entscheidenden Abmessungen stören und zu erheblichen Kosten führen. Deshalb darf die Heizlampe nicht einfach nur eine Wärmequelle sein – sie muss vielmehr wie ein präzises thermisches Instrument funktionieren.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben die Heizlampe für die Verarbeitung von SiC-Wafers so konstruiert, dass sie aus Kurzwellen-Infrarot-Halogenemitttern besteht, die in einer Quarzkapsel untergebracht sind. Dadurch wird eine schnelle Reaktion sowie eine stabile Leistung gewährleistet. Es wird eine Homogenität innerhalb von ±0,1 °C über die gesamte Behandlungszone erreicht; außerdem ist die Genauigkeit der Einstellungen bei verschiedenen Chargen auf ±0,5 °C begrenzt. Die Leistungsdichte passt sich den Anforderungen sowohl bei der weichen als auch bei der harten Behandlung des Photoresists an. Der thermische Zustand bleibt auch nach 5.000 Stunden noch stabil – mit weniger als 5 % Leistungsabfall. Das Gehäuse ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet; außerdem sorgen die verbundenen Kontakte sowie der Schutzmechanismus dafür, dass während des Betriebs keine Partikel entstehen.

Graphen Verarbeitung mit Infrarotlampe

Sat, 20 Jun 2026 01:57:28 +0800

In der Fertigungsstätte sind die Profile der Trocknungsprozesse kein matter Aspekt – sie bestimmen vielmehr, ob eine Charge erfolgreich hergestellt werden kann oder nicht. Eine Abweichung von 2°C während des Weich- oder Härttrocknungsprozesses kann dazu führen, dass die CD-Chips beschädigt werden, es zu Unreinheiten kommt und somit ganze Chargen vernichtet werden. Wir haben unsere Infrarotlampen für den Graphenverarbeitungsprozess so konstruiert, dass diese Unsicherheiten beseitigt werden.

Was technisch wirklich wichtig ist:
Diese Lampen strahlen näherungsweise-infrarotes Licht aus, das eine schnelle und kontrollierte Erwärmung ermöglicht. Dadurch wird eine Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche der Wafer erreicht – im Bereich von ±0,1°C. Der Graphenemitter hält seine Leistung über Tausende von Stunden bei – die Geräte können mehr als 5.000 Stunden lang betrieben werden, ohne dass die Leistung um mehr als 5% sinkt.

Optischer Wafer Verarbeitungsofen

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, sitzt die 300mm-Wafer und wartet auf ihren Softbake—der Schritt, der das Photoresist-Profil fixiert. Eine Drift von 2°C reicht aus, um kritische Dimensionen zu zerstören und die gesamte Charge auszuschießen. Unsere optischen Wafer-Prozessheizer wurden entwickelt, um genau das zu verhindern.

Hier ist, was unter der Haube tatsächlich zählt.

Die Einheit nutzt kurzwellige Infrarotstrahler (SWIR) in einer quarzverstärkten Kammer, um eine Wafer-übergreifende thermische Gleichmäßigkeit von ±0,1°C über die gesamte Oberfläche zu erreichen. Das sichert die Einhaltung der Photoresist-Backprofile, Zyklus für Zyklus. Die Einhaltung der Reinraumklasse 1–100 ist kein Add-on; sie ist im Design verankert durch dichte Baugruppen, Materialien mit geringem Ausgasungsverhalten und einen partikelfreien Pfad, der Kontamination aus der thermischen Zone ausschließt.