Infrarotlampenfassung für Wafer Werkzeug

Tue, 09 Jun 2026 00:56:58 +0800

Auf der Wafer-Ebene bedeutet thermische Drift während des Photolack-Prebake oder Wafer-Trocknung nicht nur einen Einfluss auf die Liniengeschwindigkeit. Sie führt zu Defekten auf dem Wafer – Defekten, die Sie sich nicht leisten können.
Infrarotlampenfassungen für Wafer-Werkzeuge sind auf eine Aufgabe ausgelegt: die Prozesstemperatur dort zu halten, wo sie sein muss – stabil, reproduzierbar und innerhalb des thermischen Budgets des Films.

Was unter der Haube tatsächlich zählt
Wir verwenden kurzwellige Infrarotstrahler in Kombination mit einer Quarzfassung und Reflektorgeometrie, die die Wärme schnell und gezielt dorthin bringt, wo sie benötigt wird – ohne Hotspots.
Das ergibt eine Wafer-Uniformität von ±0,1°C über die gesamte Backzone. Die Aufheizphase ist kontrolliert, sodass Lösungsmittel während des Softbake den Photolack sauber ausdampfen und das Lackprofil nach dem Hardbake stabil bleibt.
Die Fassungsschnittstelle ist so ausgelegt, dass sie sich in Werkzeuge integrieren lässt: kompakte Bauform, standardisierte Montage und zuverlässiger elektrischer Kontakt. Der Vorteil ist eine konstante Leistung Lot für Lot.

Sockel on Five-Star Infrared Heating Systems

Infrarotlampenfassung für Wafer Werkzeug