FOUP Trockner (Front Opening Unified Pod)

Tue, 30 Jun 2026 01:29:28 +0800

Auf der Lithografieebene rollt die FOUP weiterhin mit einer dünnen Wasserschicht darauf herum – diese entsteht während des letzten Reinigungsprozesses. Wenn der Weichbrennvorgang ungleichmäßig verläuft, ändert sich das Profil des Fotoresists. Dadurch wird bereits vor dem eigentlichen Belichtungsvorgang die Kontrolle über die kritischen Abmessungen beeinträchtigt. Man benötigt daher einen Trockner für die FOUP, der Feuchtigkeit beseitigt und die Temperatur zuverlässig stabilisiert – ohne Rückschlüsse auf Erfahrungswerte.

Was wirklich wichtig ist Wir nutzen mittelwelliges Infrarotlicht für eine schnelle, direkte Erwärmung – ohne dass dabei Partikel in die Luft geschleudert werden. Die Homogenität auf Waferebene bleibt dabei bei ±0,1°C – somit erhält jeder Wafer im Rahmen des Weich- und Hartbrennvorgangs dieselben thermischen Bedingungen. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch abgedichtete Luftströme sowie Materialien mit geringer Gasemission gewährleistet. Der Heizer ist so ausgelegt, dass er rund um die Uhr betrieben werden kann. Die Zuverlässigkeit wird wie immer anhand der Betriebszeit und der Wartungsintervalle überprüft – nicht anhand von Marketingargumenten.

Eröffnung on Five-Star Infrared Heating Systems

FOUP Trockner (Front Opening Unified Pod)