Bestbewertete RTP Lampe für die Fertigung

Tue, 23 Jun 2026 12:54:22 +0800

In der Fertigungshallen ist die thermische Drift bei der Verarbeitung von Photoresisten kein theoretisches Problem. Sie äußert sich in Schwankungen der Linienbreite, Adhäsionsproblemen sowie einem Rückgang der Ausbeute – und diese Probleme verschlimmern sich von Charge zu Charge. Man benötigt eine Heizquelle, die zum Prozess passt – und nicht gegen ihn wirkt. Unsere RTP-Lampen bieten genau das.

Wir verwenden Kurz- und Mittelwellen-Infrarotstrahler im Quarz-Halogendesign, die eine schnelle und effiziente Energieübertragung ermöglichen. Dadurch wird eine Temperaturuniformität auf Waferebene erreicht – innerhalb von ±0,1°C über die gesamte Fläche des Wafers. Zudem wird ein wiederholbares Heizprofil gewährleistet, das den thermischen Anforderungen entspricht. So sind sowohl das sanfte als auch das intensive Heizen wiederholbar: Die Entfernung von Lösungsmitteln wird kontrolliert, der Filmstress bleibt stabil und die Kontrolle der kritischen Abmessungen bleibt im Rahmen der Spezifikationen. Das System wird in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt – dort entstehen keine Partikel. Zudem gibt es eine kontinuierliche Überwachung sowie Materialien mit geringer Ausgasung.

Bewertet on Five-Star Infrared Heating Systems

Bestbewertete RTP Lampe für die Fertigung