Processing on Five-Star Infrared Heating Systems

সিআইসি ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণের জন্য হিটার ল্যাম্প

Thu, 02 Jul 2026 03:01:43 +0800

ফ্যাব ফ্লোরে, ১৫০ মিমি আকারের SiC ওয়েফারগুলো লিথোগ্রাফি সেলে রাখা থাকে; এগুলো ফটোরেজিস্ট বেক প্রক্রিয়ার জন্য প্রস্তুত থাকে। মাত্র কয়েক ডিগ্রি তাপমাত্রার পরিবর্তনও ওয়েফারের আকার নিয়ন্ত্রণকে ব্যাহত করতে পারে; এর ফলে ব্যয়ও বেড়ে যায়। তাই হিটার ল্যাম্পটি শুধুমাত্র তাপ উৎপন্ন করার জন্য ব্যবহৃত হয় না—এটা অবশ্যই একটি নির্ভরযোগ্য তাপীয় যন্ত্র হিসেবে কাজ করতে হবে।

কী গুরুত্বপূর্ণ?
আমরা SiC ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণের জন্য এমন হিটার ল্যাম্প তৈরি করেছি, যেখানে কোয়ার্টজ আবরণে স্বল্প-তরঙ্গদৈর্ঘ্যের ইনফ্রারেড হ্যালোজেন এমিটার ব্যবহৃত হয়েছে। এর ফলে বেক জোনে ওয়েফারের তাপমাত্রা ±০.১°C এর মধ্যে থাকে; আর লট থেকে লটে তাপমাত্রার পরিবর্তন ±০.৫°C এর মধ্যে থাকে। পাওয়ার ডেনসিটি ফটোরেজিস্ট সফ্ট/হার্ড বেক প্রক্রিয়ার জন্য উপযুক্ত; আর ৫,০০০ ঘণ্টারও বেশি সময় ধরে এটা কাজ করতে পারে, আউটপুট হ্রাস হয় মাত্র ৫% এর মধ্যে। এটা ক্লাস ১–১০০ এর ক্লিনরুমে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত; এর বন্ধনীগুলো অপারেশনের সময় কোনো ধূলিকণা উৎপন্ন না হওয়ার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে।

গ্রাফিন প্রক্রিয়াকরণের জন্য ইনফ্রারেড ল্যাম্প

Sat, 20 Jun 2026 01:57:29 +0800

ফ্যাব ফ্লোরে, ফটোরেজিস্ট বেকিং প্রক্রিয়াগুলো কোনো ঐচ্ছিক বিষয় নয়; বরং এগুলোই হলো উৎপাদন সফল হওয়া বা অসফল হওয়ার মধ্যকার পার্থক্য। সফ্ট বেক বা হার্ড বেক প্রক্রিয়ায় ২°C এর মতো ছোট পরিবর্তনও ওয়েফারগুলোর তাপমাত্রাকে পরিবর্তিত করে দিতে পারে; ফলে ওয়েফারগুলো নষ্ট হয়ে যেতে পারে। আমরা গ্রাফিন প্রক্রিয়াকরণের জন্য ইনফ্রারেড ল্যাম্প তৈরি করেছি; যাতে এই ধরনের অনিশ্চয়তাগুলো দূর হয়।

প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?
এই ল্যাম্পগুলো দ্রুত ও নিয়ন্ত্রিতভাবে তাপ সরবরাহ করে; ফলে বেকিং প্রক্রিয়ার সময় ওয়েফারগুলোর তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে। গ্রাফিন ইমিটারগুলো হাজার হাজার ঘণ্টা ধরে স্থিতিশীল অবস্থায় থাকে; ৫,০০০+ ঘণ্টা ধরে এগুলো ব্যবহার করা হয়েছে, এবং আউটপুটে ৫% এরও কম হ্রাস হয়েছে।

অপটিক্যাল ওয়েফার প্রসেসিং হিটার

Tue, 02 Jun 2026 03:46:21 +0800

Out on the line, that 300mm wafer sits waiting for its soft bake—step যা photoresist প্রোফাইলটি লক করে। মাত্র ২°C ড্রিফটেই গুরুত্বপূর্ণ মাত্রা নষ্ট হতে পারে এবং পুরো লটটি বাতিল হতে পারে। আমরা আমাদের optical wafer processing heaters এমনভাবে তৈরি করেছি যাতে তা কখনোই ঘটে না।

এখানে আসলেই যা গুরুত্বপূর্ণ তা হলো:

ইউনিটটি quartz-enhanced চেম্বারের ভিতরে short-wave infrared (SWIR) emitter ব্যবহার করে wafer-স্তরের ±0.1°C তাপমাত্রার সমতা পুরো পৃষ্ঠ জুড়ে বজায় রাখে। এর ফলে photoresist bake প্রোফাইল প্রতিটি সাইকেল ধরে লক থাকে। Cleanroom Class 1–100 কমপ্লায়েন্স কোনো অতিরিক্ত ফিচার নয়; এটি ডিজাইনের অংশ, যার মধ্যে সীলযুক্ত অ্যাসেম্বলি, কম আউটগ্যাসিং উপাদান এবং একটি particle-মুক্ত পথ অন্তর্ভুক্ত, যা তাপীয় জোনে দূষণ প্রবেশ থেকে রক্ষা করে।