Üretim alanında, 150 mm’lik SiC waferleri litografi ünitesinde bulunur ve fotoresistin pişirilmesi için hazır durumdadır. Sadece birkaç derecelik sıcaklık değişikliği bile kritik boyut kontrolünü bozabilir ve büyük maliyetlere yol açabilir. Bu yüzden ısıtıcı lamba sadece bir ısı kaynağı olamaz; tekrarlanabilir bir termal cihaz gibi davranmalıdır.
Önemli olan faktörler
SiC waferlerinin işlenmesi için kullanılan ısıtıcı lambalar, hızlı tepki veren ve stabil çıkış sağlayan kısa dalga boylu kızılötesi halojen ışık kaynaklarından oluşur. Böylece pişirme bölgesinde waferler arasında ±0,1°C’lik bir eşitlik sağlanır ve parti başına ±0,5°C’lik tekrarlanabilirlik elde edilir. Güç yoğunluğu, fotoresistin yumuşak ve sert pişirilmesi için uygun şekilde ayarlanmıştır. Ayrıca, 5.000 saatten fazla kullanım sonrasında bile çıkışta %5’ten az bir düşüş olur. Bu lamba, Class 1–100 standartlarına uygun bir şekilde tasarlanmıştır; bağlantı noktaları ve koruma sistemleri sayesinde işletim sırasında parçacık oluşumu engellenir.
Neden SiC işlemleri için uygundur?
SiC waferlerinin işlenmesinde termal kontrol çok önemlidir ve her waferin maliyeti oldukça yüksektir. Bu lamba, fotoresistin doğru şekilde pişirilmesini sağlar; böylece atık ve yeniden işleme gereksinimleri azalır. Hızlı ısınma süresi ise işlem süresini kısaltır. Tasarım, uluslararası yarı iletken ekipman standartlarına uygun şekilde yapılmıştır; bu sayede tüm ekipmanı yeniden kalibre etmeden bu lambayı kullanabilirsiniz.
Bazı pratik ipuçları
Montaj işlemi, ekipmanın konektör arayüzüne uyum sağlamak ve voltaj ayarlarını doğrulamakla ilgilidir. Uyumsuz kablolar, eşitlik sorunlarına neden olabilir. Lamba standart pişirme istasyonlarıyla çalışır, ancak yansıtıcı geometrisinin wafer boyutlarına uyumlu hale getirilmesi gerekir. Lambanın yerine takılmasının ardından hızlı bir kalibrasyon yapılması, işleminizin doğru şekilde ayarlanmasını sağlar.