Di bilik pengeluaran, profil pemanasan bahan fotorezist bukanlah sesuatu yang boleh dipilih secara sewenang-wenangnya – ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada proses pengeluaran akan berjaya atau sebaliknya. Perbezaan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada struktur wafer, serta mengakibatkan kegagalan keseluruhan proses pengeluaran. Kami telah mencipta lampu inframerah khusus untuk pemprosesan grafena, agar ketidakpastian tersebut dapat dielakkan.
Apa yang benar-benar penting dari segi teknikal
Lampu ini menghasilkan cahaya inframerah yang tepat, sehingga memungkinkan suhu permukaan wafer tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C. Emitter grafena pula mampu memberikan sinaran yang stabil selama ribuan jam; unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.
Lampu ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih yang memenuhi standard Class 1–100. Ia tidak menghasilkan zarah-zarah tertentu, dan mampu mengawal suhu dengan tepat. Kuasa, voltan, dan dimensi lampu boleh disesuaikan agar sesuai dengan port dan peralatan sedia ada. Dengan demikian, integrasinya mudah dilakukan, tanpa perlu reka bentuk semula dari awal.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses litografi
Dalam proses litografi, diperlukan proses pemanasan yang efektif untuk menghilangkan pelarut tanpa menyebabkan perubahan struktur wafer. Lampu kami mampu mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, mengekalkan suhu tersebut secara stabil, dan membolehkan setiap wafer mendapat perlakuan termal yang sama. Ini seterusnya meningkatkan ketepatan proses litografi, mengurangkan keperluan untuk melakukan ulangan proses, dan memudahkan perancangan masa pengeluaran. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana sistem ini hanya panas apabila diperlukan, dan suhu dapat dikawal dengan baik. Hayat operasi lampu yang panjang pula mengurangkan keperluan untuk stok alat ganti dan masa penyelenggaraan.
Apa yang perlu anda ketahui terlebih dahulu
Lampu ini direka mengikut standard peralatan semikonduktor antarabangsa. Ia merupakan alternatif yang sesuai kepada sumber inframerah konvensional seperti halogen/kwarsa. Semasa pemasangan, perlu pastikan geometri reflektor dan jarak optik sesuai. Jika lampu diganti tanpa memeriksa jarak fokus, zon panas akan berubah kedudukannya. Rancang proses pemasangan dengan mempertimbangkan geometri ruang pengeluaran, aliran pendingin, dan mekanisme keselamatan, agar jumlah zarah dapat dikurangkan dan masa operasi dapat ditingkatkan.