SiCウェーハ加工用ヒーターランプ

ファブの現場では、150mmのSiCウェーハがリソグラフィー装置内に置かれており、今にもフォトレジストの焼成が始まるところです。わずか数度の温度変動でも、重要な寸法制御が乱れ、多大なコストがかかってしまいます。そのため、ヒーターランプは単なる熱源として機能するだけでなく、再現性のある熱管理装置とし...